[发明专利]显示器件及其制作方法

说明书

本发明提供一种显示器件及其制作方法，包括：形成一器件板；在所述器件板上形成色阻层，所述色阻层中的色阻块以阵列形式排列；在所述器件板上形成黑矩阵层，其中，所述色阻块的至少一部分限定于所述黑矩阵层的一网格区域内，且所述色阻块在所述器件板上的正投影的至少一部分覆盖相邻的所述黑矩阵层在所述器件板上的正投影的至少一部分；形成平坦化层，所述平坦化层覆盖所述色阻块和所述黑矩阵层。在本发明提供的显示器件及其制作方法中，简化了显示器件中彩膜的制作工艺。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示器件及其制作方法。

背景技术

使用彩膜(Color Filter，CF)代替偏光片(Polarizer，POL)被称为免偏光板(POL-less)技术，它不仅能将功能层的厚度从100微米左右降低至5微米以下，而且能够将出光率从42％提高至60％。基于彩膜的POL-less技术被认为是实现动态弯折产品开发的关键技术之一。

目前，传统的彩膜的制作工艺为在衬底上形成黑矩阵(Black Matrix，BM)作为堤坝层(Bank)，使得喷墨打印时能够精准对位；然而，在实现精准打印仍然需要对堤坝层(Bank)的表面进行处理以形成疏水性结构，该方法制作工艺繁琐，生产效率较低。

故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。

发明内容

本发明实施例提供一种显示器件及其制作方法，用于简化显示器件中彩膜的制作工序。

本发明实施例提供一种显示器件的制作方法，包括：

步骤A：形成一器件板；

步骤B：在所述器件板上形成色阻层，所述色阻层中的色阻块以阵列形式排列；

步骤C：在所述器件板上形成黑矩阵层，其中，所述色阻块的至少一部分限定于所述黑矩阵层的一网格区域内，且所述色阻块在所述器件板上的正投影的至少一部分覆盖相邻的所述黑矩阵层在所述器件板上的正投影的至少一部分；

步骤D：形成平坦化层，所述平坦化层覆盖所述色阻块和所述黑矩阵层。

在本发明的显示器件的制作方法中，所述步骤B包括：

利用色阻材料制作所述色阻层，所述色阻材料包括彩色滤光材料、荧光材料和量子点材料中的一种或其任意组合。

在本发明的显示器件的制作方法中，所述步骤B还包括：

采用至少一次喷涂工艺以形成膜层均一的所述色阻层，所述色阻层的厚度介于1微米到4微米之间，一所述色阻块对应的色阻材料的体积介于1皮升到10皮升之间。

在本发明的显示器件的制作方法中，所述步骤C包括：

形成遮光材料层；

对所述遮光材料层进行处理，以形成图案化的所述黑矩阵层。

在本发明的显示器件的制作方法中，所述步骤B之后，还包括：

对所述器件板的表面进行改性处理，以形成亲水性的所述器件板。

在本发明的显示器件的制作方法中，所述步骤A包括：

形成薄膜晶体管阵列基板；

在所述薄膜晶体管阵列基板上形成子像素单元，所述子像素单元包括阴极、有机发光层和阳极；

在所述子像素单元上形成封装层。

在本发明的显示器件的制作方法中，所述步骤B还包括：

在所述器件板的所述封装层上与所述子像素单元对应的位置形成所述色阻块。

在本发明的显示器件的制作方法中，所述步骤A包括：