[发明专利]显示器件及其制作方法在审
| 申请号： | 202010223420.1 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN111403335A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 王雷 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/32;H01L51/52 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 器件 及其 制作方法 | ||
1.一种显示器件的制作方法，其特征在于，包括：
步骤A：形成一器件板；
步骤B：在所述器件板上形成色阻层，所述色阻层中的色阻块以阵列形式排列；
步骤C：在所述器件板上形成黑矩阵层，其中，所述色阻块的至少一部分限定于所述黑矩阵层中的一网格区域内，且所述色阻块在所述器件板上的正投影的至少一部分覆盖相邻的所述黑矩阵层在所述器件板上的正投影的至少一部分；
步骤D：形成平坦化层，所述平坦化层覆盖所述色阻块和所述黑矩阵层。
2.根据权利要求1所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤B包括：
利用色阻材料制作所述色阻层，所述色阻材料包括彩色滤光材料、荧光材料和量子点材料中的一种或其任意组合。
3.根据权利要求1所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤B还包括：
采用至少一次喷涂工艺以形成膜层均一的所述色阻层，所述色阻层的厚度介于1微米到4微米之间，一所述色阻块对应的色阻材料的体积介于1皮升到10皮升之间。
4.根据权利要求1所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤C包括：
形成遮光材料层；
对所述遮光材料层进行处理，以形成图案化的所述黑矩阵层。
5.根据权利要求1所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤B之后，还包括：
对所述器件板的表面进行改性处理，以形成亲水性的所述器件板。
6.根据权利要求1至5任一项所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤A包括：
形成薄膜晶体管阵列基板；
在所述薄膜晶体管阵列基板上形成子像素单元，所述子像素单元包括阴极、有机发光层和阳极；
在所述子像素单元上形成封装层。
7.根据权利要求6所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤B还包括：
在所述器件板的所述封装层上与所述子像素单元对应的位置形成所述色阻块。
8.根据权利要求1至5任一项所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述步骤A包括：
提供一衬底。
9.根据权利要求1所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述黑矩阵层的厚度大于或等于所述色阻块的厚度。
10.一种显示器件，其特征在于，所述显示器件由如权利要求1至9任一项所述的显示器件的制作方法制成。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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