[发明专利]原子层沉积法用薄膜形成原料、薄膜的制造方法以及醇盐化合物

权利要求书

1.一种原子层沉积法用薄膜形成原料，其含有由下述通式(1)表示的醇盐化合物，

式中，R¹表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，R²和R³分别独立地表示碳原子数1～5的烷基，z¹表示1～3的整数。

2.一种薄膜的制造方法，其为通过原子层沉积法在基体的表面制造含有锡原子的薄膜的方法，所述制造方法包括：

使权利要求1所述的原子层沉积法用薄膜形成原料气化，沉积于所述基体的表面而形成前体薄膜的工序；以及

使所述前体薄膜与反应性气体反应而在所述基体的表面形成含有锡原子的薄膜的工序。

3.一种醇盐化合物，其由下述通式(2)表示，

式中，R⁴～R⁶分别独立地表示碳原子数1～5的烷基，其中，R⁴～R⁶的碳原子数的合计为4～8，z²表示1～3的整数。