[发明专利]分类半导体样本中的缺陷

权利要求书

1.一种用于将样本中的缺陷分类为多个类别的系统，所述系统包括处理器和存储器电路系统(PMC)，所述处理器和存储器电路系统(PMC)经配置为：

接收由第一分类器分类为多数类别的多个缺陷，其中所述多个缺陷中的一个或多个缺陷属于一个或多个少数类别，并且所述多个缺陷中的至少一部分缺陷属于所述多数类别，并且其中所述多个缺陷中的每个缺陷由多个属性表征，每个属性具有各自的值；

选择所述多个属性的子集，并为所述子集的每个属性定义区分项，以使配置为根据所述子集和针对每个相应属性的所述区分项对缺陷进行分类的第二分类器正确地将所述多个缺陷中至少预定份额的缺陷分类为所述一个或多个少数类别和所述多数类别；

生成临时训练集，所述临时训练集包括：属于所述多数类别的所述多个缺陷中的至少一部分缺陷、属于所述少数类别的所述多个缺陷中的至少一部分缺陷、以及额外缺陷，所述额外缺陷具有针对属性的所述子集的值以使所述第二分类器将所述额外缺陷分类为所述少数类别；

训练引擎，所述引擎经配置以获取对于由属性的所述子集的第一值所表征的缺陷属于所述多数类别的可信度，其中对所述临时训练集、属性的所述子集和针对所述子集的每个属性的所述区分项执行训练；

将所述引擎应用于被分类为所述多数类别的第二多个缺陷中的每个给定缺陷，以获取对于将所述给定缺陷分类为所述多数类别的可信度；以及

从所述第二多个缺陷输出具有比预定阈值要低的可信度的缺陷，所述缺陷从而假定属于所述一个或多个少数类别。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述PMC进一步经配置以生成额外缺陷，所述额外缺陷可由所述第二分类器分类为所述一个或多个少数类别，并将所述额外缺陷包括进所述临时训练集中。

3.如权利要求2所述的系统，其中所述额外缺陷中的至少一个缺陷为被产生作为多个第一值的合成缺陷，每个第一值根据针对所述子集的每个属性的区分项而与来自所述子集的属性相关联。

4.如权利要求3所述的系统，其中与给定属性相关联的第一值被确定为在属于所述一个或多个少数类别的第一缺陷的所述给定属性的值与邻近所述第一缺陷并属于所述多数类别的第二缺陷的所述给定属性的值之间的值。

5.如权利要求3所述的系统，其中将与给定属性相关联的第一值确定为属于所述一个或多个少数类别的缺陷的所述给定属性的值。

6.如权利要求1所述的系统，其中所述PMC进一步经配置以：

将所述输出缺陷的至少一部分识别为属于所述一个或多个少数类别；

通过对训练集训练所述第一分类器来更新所述第一分类器，所述训练集包括属于所述一个或多个少数类别的所述多个缺陷中的至少一些缺陷、属于所述多数类别的所述多个缺陷中的至少一些缺陷、以及被识别为属于所述一个或多个少数类别的所述输出缺陷；以及

更新由所述第一分类器分类为所述多数类别的所述多个缺陷，并输出缺陷，所述缺陷在更新时出现且所述引擎针对所述缺陷获取比所述阈值要低的可信度。

7.如权利要求1所述的系统，其中所述引擎包括树集成。

8.如权利要求1所述的系统，其中所述区分项为来自一系列值的阈值。

9.如权利要求1所述的系统，其中所述区分项包括来自分立值集合的一个或多个值。