[实用新型]用于半导体扩散工艺的扩散气体的供应装置及扩散设备有效

专利信息
申请号: 201922388946.0 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN210778647U 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 杨二存;赵小平;顾生刚;刘海金;高丽丽;刘海泉;郭星妙 申请(专利权)人: 天津爱旭太阳能科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/67
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 李辉;苏耿辉
地址: 300400 天津市北辰区经济*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 用于 半导体 扩散 工艺 气体 供应 装置 设备
【权利要求书】:

1.一种用于半导体扩散工艺的扩散气体的供应装置,其特征在于,包括:

源瓶(20),容纳有呈液态的扩散物;

载气管(22),被适配为运送载气进入所述扩散物中,以形成携带有所述扩散物的所述扩散气体;

扩散气体管(24),被适配为将所述扩散气体运送至与所述供应装置耦合的扩散炉(10);

液位传感器(26),被适配为检测所述源瓶(20)中的所述扩散物的液位高度;以及

控制器(30),耦合至所述液位传感器(26)并且被适配为基于所述液位高度调节所述载气管(22)中的载气流量或所述源瓶(20)中的所述扩散物的液位高度。

2.根据权利要求1所述的供应装置,其特征在于,还包括:

分支管(28),连接至所述载气管(22),并且被适配为运送所述载气进入所述载气管(22)中,其中所述控制器(30)还被适配为基于所述液位高度调节所述分支管(28)中的载气流量。

3.根据权利要求2所述的供应装置,其特征在于,还包括:

流量计(27-1、27-2),设置在所述载气管(22)和/或所述分支管(28)上,并且被配置为感测所述载气管(22)和/或所述分支管(28)中的载气流量。

4.根据权利要求1所述的供应装置,其特征在于,还包括:

恒温槽(40),容纳所述源瓶(20)和所述液位传感器(26)并且被适配为维持所述源瓶(20)的温度恒定。

5.根据权利要求4所述的供应装置,其特征在于,

所述恒温槽(40)包括热电偶,所述热电偶被适配为感测所述恒温槽(40)的温度。

6.根据权利要求1所述的供应装置,其特征在于,还包括:

第一阀(23),设置在所述载气管(22)上,并且被适配为基于所述控制器(30)的控制来调节所述载气管(22)中的载气流量。

7.根据权利要求1所述的供应装置,其特征在于,还包括:

第二阀(25),设置在所述扩散气体管(24)上,并且被适配为基于所述控制器(30)的控制来调节所述扩散气体管(24)中的所述扩散气体的流量。

8.根据权利要求1所述的供应装置,其特征在于,还包括:

压力传感器,设置在所述源瓶(20)内,并且被适配为感测所述源瓶(20)内的所述扩散物上方的气压。

9.根据权利要求1所述的供应装置,其特征在于,

所述扩散物包括POCl3,并且所述载气包括N2

10.一种扩散设备,其特征在于,所述设备包括根据权利要求1至9中的任一项所述的供应装置。

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