[实用新型]一种卷对卷化学水浴沉积系统及其除膜装置有效
申请号: | 201920952369.0 | 申请日: | 2019-06-21 |
公开(公告)号: | CN210245523U | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 张德忠;王雪戈 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人: | 姜波 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 水浴 沉积 系统 及其 装置 | ||
1.一种卷对卷化学水浴沉积系统的除膜装置,用于光伏基底的除膜;其特征在于,包括:辊轴、驱动件及支架组件;所述辊轴的一端与所述驱动件传动连接,所述辊轴的另一端通过所述支架组件支撑;所述辊轴用于收卷所述光伏基底上的保护膜。
2.根据权利要求1所述的一种卷对卷化学水浴沉积系统的除膜装置,其特征在于,所述支架组件包括:支座、升降机构及导轨,所述支座的一端与所述导轨滑动连接,所述支座的另一端用于支撑所述辊轴;所述支座与所述升降机构传动连接,且所述升降机构带动所述支座升降。
3.一种卷对卷化学水浴沉积系统,其特征在于,包括放卷装置、沉积装置、收卷装置及权利要求1-2任一项所述的卷对卷化学水浴沉积系统的除膜装置;
所述放卷装置、所述沉积装置及所述收卷装置依次传动连接,所述放卷装置与所述除膜装置传动连接;由所述放卷装置释放的所述光伏基底依次经过所述沉积装置,并收卷于所述收卷装置;且所述光伏基底上的保护膜收卷于所述除膜装置的所述辊轴上。
4.根据权利要求3所述的一种卷对卷化学水浴沉积系统,其特征在于,所述光伏基底的传输速度为0.5m/Min至5m/Min。
5.根据权利要求4所述的一种卷对卷化学水浴沉积系统,其特征在于,所述除膜装置的运行速度与所述光伏基底的传输速度相同。
6.根据权利要求3所述的卷对卷化学水浴沉积系统,其特征在于,所述沉积装置包括通依次相连通的主反应区、清洗区及烘干区。
7.根据权利要求6所述的卷对卷化学水浴沉积系统,其特征在于,所述主反应区包括水浴反应室,所述水浴反应室内设置有若干传输辊,所述放卷装置通过所述传输辊与所述收卷装置传动连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的