[实用新型]刻蚀设备

说明书

本实用新型涉及一种刻蚀设备，包括石英管，所述石英管内产生等离子体；固定组件，所述固定组件的两端分别为连接端和固定端，所述连接端套设于所述石英管的一端并与所述石英管连接；限位组件，所述限位组件分别设置于靠近所述石英管的两端，一端的限位组件与所述连接端贴合，以使所述固定组件与所述石英管的一端连接时不触碰所述石英管的端部。本实用新型避免了所述石英管在调转时与所述固定组件发生磕碰而产生颗粒的风险，并且便于操作人员确认调转的方向和位置，提高了刻蚀速率的稳定性和安装的便利性。

技术领域

本实用新型涉及半导体设备制造领域，尤其涉及一种刻蚀设备。

背景技术

刻蚀是半导体制造工艺中的一种相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀最常用的分类是：干法刻蚀和湿法刻蚀。其中，常用的干法刻蚀包括等离子体刻蚀(PE)、反应离子刻蚀(RIE)及化学干法刻蚀(CDE)。

现有的CDE刻蚀设备中，包括石英管、聚四氟乙烯管、反应腔，石英管在长期工作过程中，由于受到微波的轰击而容易被损耗，每隔一定时间(如100小时)就需要将石英管的两端进行调转，在调转的过程中，如果石英管的端部边缘碰到聚四氟乙烯管就会产生颗粒，在后续进程中，会将颗粒带入反应腔中，从而对待刻蚀的晶圆造成污染、划伤、碎片等缺陷，影响刻蚀速率，降低产品质量；另外，对于石英管每次调转时的位置操作人员无法进行精确的掌控，以至于调转石英管后定位时间较长。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种刻蚀设备，能够解决石英管调转过程中的磕碰问题，避免产生颗粒的风险，并便于确认石英管调转的方向和位置。

为了达到上述目的，本实用新型提供了一种刻蚀设备，包括：

石英管，所述石英管内产生等离子体；

固定组件，所述固定组件的两端分别为连接端和固定端，所述连接端套设于所述石英管的一端并与所述石英管连接；

限位组件，所述限位组件分别设置于靠近所述石英管的两端，一端的限位组件与所述连接端贴合，以使所述固定组件与所述石英管的一端连接时不触碰所述石英管的端部。

微波反应组件，所述微波反应组件套设于所述石英管上，为所述石英管提供微波。

可选的，两端的所述限位组件与所述石英管两端的端部的距离相等。

可选的，任一端的所述限位组件均包括多个凸起部，多个所述凸起部沿所述石英管的周向均布于所述石英管的外壁。

可选的，任一端的所述凸起部的个数至少为两个。

可选的，一端的多个所述凸起部与另一端的多个所述凸起部相互对称。

可选的，两端的多个所述凸起部均设置有不同的标记，以区分所述石英管的两端。

可选的，所述微波反应组件包括主体及沿所述主体轴向贯通的通孔，所述主体内沿周向均布设置有多个凹槽，多个所述凹槽沿所述主体轴向贯通并与所述通孔连通。

可选的，多个所述凹槽与任一端的多个所述凸起部一一对应。

可选的，所述凹槽的形状与所述凸起部的形状相配合。

本实用新型通过在靠近所述石英管的两端分别设置限位组件，以使所述固定组件与所述石英管的任一端连接时不触碰所述石英管的端部，避免了因磕碰而产生颗粒的风险。进一步，通过使所述限位组件的凸起部设置不同的标记，可以区分所述石英管的两端，便于操作人员确认调转的方向和位置，提高了刻蚀速率的稳定性和安装的便利性。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的刻蚀设备的结构示意图；