|
钻瓜专利网为您找到相关结果 161个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]适配器电源-CN202210841175.X在审
-
林哲民;刘家桦;林敬凯
-
全汉企业股份有限公司
-
2022-07-18
-
2023-04-07
-
H02M7/00
- 本发明公开一种适配器电源,包括电路板、电磁干扰滤波器、屏蔽件、功率因子校正电感、变压器以及多个发热元件。电路板具有相对的正面及背面、相互平行的第一长边与第二长边,且电路板的正面在第一长边的延伸方向上依序区分为第一区、第二区及第三区。电磁干扰滤波器配置于第一区且靠近第一长边。屏蔽件配置于第一区且靠近电磁干扰滤波器。功率因子校正电感配置于第一区且靠近第二长边。功率因子校正电感具有第一长轴。变压器配置于第三区且靠近第一长边。变压器具有第二长轴,第一长轴垂直于第二长轴。多个发热元件设置于电路板的背面。
- 适配器电源
- [发明专利]晶圆处理装置及其工作方法-CN201810959256.3有效
-
栾剑峰;刘家桦;叶日铨
-
德淮半导体有限公司
-
2018-08-22
-
2021-01-22
-
H01L21/68
- 一种晶圆处理装置及其工作方法,其中,晶圆处理装置包括:腔体,腔体内包括正位区,正位区用于放置晶圆,腔体具有第一外表面;自第一外表面通入腔体内的开口;固定于第一外表面的旋转装置,旋转装置与第一外表面平行;可动连接于旋转装置的复位装置,复位装置可绕旋转装置转动;探测装置,用于获取晶圆的位置信息;判断单元,用于根据位置信息判断是否至少部分晶圆位于正位区外;发射单元,当至少部分晶圆位于正位区外时,发射单元用于向复位装置发送复位信号,驱动复位装置绕旋转装置向开口旋转。利用所述晶圆处理装置能够降低对晶圆的污染。
- 处理装置及其工作方法
- [实用新型]管道防堵装置-CN201920426731.0有效
-
周扬;薛强;刘世振;陈伏宏;刘家桦
-
德淮半导体有限公司
-
2019-03-29
-
2020-03-20
-
F16L55/24
- 本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种管道防堵装置。所述管道防堵装置包括:转接管道,用于连通相互垂直的第一管道和第二管道,所述第一管道和所述第二管道均用于传输废气;位于转接管道内部的疏通结构,所述疏通结构包括至少一立于所述转接管道内的支架;位于所述转接管道外部的控制器,所述控制器与所述疏通结构连接,用于驱动所述支架沿所述第一管道或所述第二管道的轴向方向进行往复运动,以避免所述废气中的颗粒物在所述转接管道内沉积。本实用新型避免了转接管道内部出现颗粒物堆积,降低了用于排出废气的管路系统发生堵塞的概率,有效避免了产品报废和设备损坏情况的发生。
- 管道装置
- [实用新型]阀板组件以及钟摆阀-CN201920775983.4有效
-
薛荣华;阚保国;刘家桦;叶日铨
-
德淮半导体有限公司
-
2019-05-27
-
2020-03-10
-
B25B27/14
- 本实用新型涉及半导体刻蚀设备技术领域,公开了一种钟摆阀,包括阀板组件,阀板组件包括阀板、阀腔以及定型螺柱,在阀腔的内底壁上设置有承接件,定型螺柱能够与承接件螺纹配合以将阀板固定在二者之间。阀板组件还包括:驱动件,用于驱动定型螺柱转动;控制单元,与驱动件通信连接,控制单元能够控制驱动件的动作。本实用新型的阀板组件能够在将阀板放置于阀腔内的正确位置后,自动旋拧定型螺柱,将阀板固定在阀腔内,减轻作业人员的劳动强度、提高生产效率的同时,能够将阀板锁紧在阀腔中,提高真空腔体的压力稳定,进而提高真空腔体的工作效率。
- 组件以及钟摆
- [实用新型]恒温供液装置-CN201920839409.0有效
-
朱小凡;赵黎;刘家桦;叶日铨
-
德淮半导体有限公司
-
2019-06-04
-
2020-02-21
-
H01L21/67
- 本实用新型提供了一种恒温供液装置,向用液设备供给恒温液体,包括:用于容纳液体的储液槽;用于向用液设备供给液体的供液管路,一端连接储液槽,另一端连接用液设备;用于接收从用液设备回流的液体的回液管路,一端连接储液槽,另一端连接用液设备;用于加热供液管路中的液体的主加热器,设置于供液管路上;用于将供液管路中的液体回流至储液槽的支流管路,一端连接储液槽,另一端连接至主加热器与用液设备之间的供液管路。本实用新型通过引入支流管路,使达到目标温度的湿法药液回流至储液槽中,并通过引入辅助加热器,对回流药液进行统一加热,使储液槽中的药液温度更接近目标温度,药液温度控制更为精确平稳,减少了主加热器的负荷。
- 恒温装置
|