[实用新型]刻蚀设备有效
| 申请号： | 201920651490.X | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN210015834U | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 金鑫;徐科;阚保国;刘家桦;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 31295 上海思捷知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石英管 固定组件 限位组件 本实用新型 连接端 等离子体 刻蚀设备 连接端套 一端连接 便利性 固定端 磕碰 触碰 刻蚀 贴合 | ||
1.一种刻蚀设备，其特征在于，包括：
石英管，所述石英管内产生等离子体；
固定组件，所述固定组件的两端分别为连接端和固定端，所述连接端套设于所述石英管的一端并与所述石英管连接；
限位组件，所述限位组件分别设置于靠近所述石英管的两端，一端的限位组件与所述连接端贴合，以使所述固定组件与所述石英管的一端连接时不触碰所述石英管的端部。
2.如权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，两端的所述限位组件与所述石英管两端的端部的距离相等。
3.如权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，任一端的所述限位组件均包括多个凸起部，多个所述凸起部沿所述石英管的周向均布于所述石英管的外壁。
4.如权利要求3所述的刻蚀设备，其特征在于，任一端的所述凸起部的个数至少为两个。
5.如权利要求4所述的刻蚀设备，其特征在于，一端的多个所述凸起部与另一端的多个所述凸起部相互对称。
6.如权利要求5所述的刻蚀设备，其特征在于，两端的多个所述凸起部均设置有不同的标记，以区分所述石英管的两端。
7.如权利要求3所述的刻蚀设备，其特征在于，所述刻蚀设备还包括微波反应组件，所述微波反应组件套设于所述石英管上；所述微波反应组件包括主体及沿所述主体轴向贯通的通孔，所述主体内沿周向均布设置有多个凹槽，多个所述凹槽沿所述主体轴向贯通并与所述通孔连通。
8.如权利要求7所述的刻蚀设备，其特征在于，多个所述凹槽与任一端的多个所述凸起部一一对应。
9.如权利要求8所述的刻蚀设备，其特征在于，所述凹槽的形状与所述凸起部的形状相配合。
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