[发明专利]基板载置方法、成膜方法、成膜装置以及有机EL面板的制造系统有效
申请号: | 201911305427.1 | 申请日: | 2019-12-18 |
公开(公告)号: | CN111331622B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 须志原友和;户江由也 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | B25J15/00 | 分类号: | B25J15/00;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 邓宗庆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板载置 方法 装置 以及 有机 el 面板 制造 系统 | ||
本发明涉及基板载置方法、成膜方法、成膜装置以及有机EL面板的制造系统。高精度地进行基板与掩模的对准。使由夹持单元(28a、28b)支承的基板处于掩模的上方而使基板从水平的第一姿势转移到夹持单元(28b)侧高的第二姿势。在保持基板的第二姿势的状态下,使夹持单元(28a、28b)下降,使夹持单元(28a)侧的基板标记和掩模标记进入摄像装置的景深内,使基板移动,以使对各标记进行拍摄而取得基板与掩模的相对位置信息并求出的位置偏移量减少。若位置偏移量小,则解除夹持单元(28b)的按压力或变更为较小的按压力,在保持第二姿势的状态下,使夹持单元(28a、28b)下降,若基板与掩模接触,则进一步使夹持单元(28b)下降,将基板载置于掩模。
技术领域
本发明涉及包括对基板的载置位置进行对准的对准处理在内的基板载置方法、使用该基板的成膜方法、成膜装置、以及有机EL面板的制造系统。
背景技术
在包含针对基板的成膜工序在内的物品的制造、例如有机EL显示器的制造中,需要在形成有TFT(薄膜晶体管)的基板上配置进行红、绿、蓝的发光的有机材料。作为配置该有机材料的方法,主要使用利用金属掩模的真空蒸镀。在这种真空蒸镀中,大多构成为以朝下的姿势支承形成有TFT的基板,从下方朝上成膜蒸镀材料。这样,在使基板的成膜面朝下进行成膜的情况下,为了尽量不妨碍成膜而在基板的端部夹持基板并进行支承,因此,基板的中央部容易因自重而成为向下方呈凸状挠曲的状态。
另外,为了在TFT的所希望的部位形成进行红、绿、蓝的发光的有机膜,需要精密地进行基板与金属掩模的对准(对位)。例如,首先,将基板和掩模配置成不接触的位置关系,利用摄像用照相机并使用基板的对准标记和掩模的对准标记进行两者的对位。此后,使基板与掩模接近,在掩模上载置基板。若在该状态下基板的对准标记与掩模的对准标记的偏移量处于规定的范围内,则对准正常结束。在下述专利文献1中,公开了通过基板保持部将基板的被成膜面朝下把持并进行基板与掩模的对准的方法。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2018-3151号公报
发明要解决的课题
随着有机EL显示器这样的产品的高精细化,近年来,在基板的蒸镀工序中也要求高精度的对准。在对准时,使用针对摄像用照相机的拍摄图像的图像处理来取得基板与掩模的对准标记位置信息。在该摄像用照相机安装有能够得到与所需的对准精度相应的分辨率的镜头。而且,近年来,为了高精度地拍摄对准标记,存在对准用的照相机的镜头的景深变浅的倾向。
因此,在专利文献1所记载的对准方法中,由于基板的挠曲,有时难以使基板和掩模的对准标记以处于镜头的景深的范围内的方式接近。另外,由于基板的挠曲朝下凸出,因此,在使基板与掩模接触了时,存在两者的偏移向未预期的方向产生的可能性。
发明内容
鉴于以上情形,本发明的课题在于可以高精度地进行在成膜工序中使用的基板与掩模的对准。
用于解决课题的方案
为了解决课题,在本发明中,采用了如下结构。
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