[发明专利]显示面板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201911189331.3 | 申请日: | 2019-11-28 |
公开(公告)号: | CN110867411B | 公开(公告)日: | 2022-07-19 |
发明(设计)人: | 王明;刘军;赵策 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L27/12;H01L21/28 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
本发明涉及显示技术领域,提出一种显示面板及其制作方法、显示装置,该显示面板制作方法包括:提供一显示面板半成品,显示面板半成品包括基板、半导体层,栅极绝缘材料层,栅极层;在栅极绝缘材料层背离基板的一侧形成隔绝材料层,以覆盖栅极层,其中,隔绝材料层能够阻止栅极层的金属离子迁移;在隔绝材料层上形成第一光刻胶材料层;对第一光刻胶材料层进行曝光,显影以使第一光刻胶材料层形成第一光刻胶图案层,其中,第一光刻胶图案层的正投影覆盖栅极层;对隔绝材料层进行刻蚀,以形成隔绝层;对栅极绝缘材料层进行刻蚀,以形成栅极绝缘层。本制作方法制成的显示面板避免了栅极层和源漏层短路,同时能够控制栅极绝缘层尾部的宽度。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
显示面板的顶栅结构一般包括有基板、导电层、栅极绝缘层、栅极层、介电层以及源/漏层。其中,导电层包括导体部和半导体部,栅极绝缘层设置于半导体部背离基板的一侧,栅极层设置于栅极绝缘层背离基板的一侧,介电层设置于基板上,且覆盖栅极层,源/漏层设置于介电层背离基板的一侧。
相关技术中,制作顶栅结构显示面板的方法一般包括:提供一基板;在基板上形成半导体层,在基板上形成栅极绝缘材料层以覆盖半导体层;在栅极绝缘材料层上形成栅极材料层;在栅极材料层上形成光刻胶材料层;对光刻胶材料层进行曝光、显影以形成光刻胶图案层;对栅极材料层进行湿刻以形成栅极层;对栅极绝缘材料层进行干刻以形成栅极绝缘层;对半导体层进行导体化处理以使半导体层部分形成导体部部分形成半导体部;在基板上形成介电层以覆盖栅极层;在介电层背离基板的一侧形成源/漏层。
然而,相关技术中,栅极层的材料一般由铜制成,铜在高温高压下容易在介电层中发生迁移,从而导致栅极层与源/漏层短路。另一方面,在对栅极绝缘材料层进行干刻过程中,光刻胶图案层的横向尺寸也发生减小,从而导致栅极绝缘层尾部尺寸不可控。
需要说明的是,在上述背景技术部分发明的信息仅用于加强对本发明的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本发明的目的在于提供一种阵列基板、显示面板及显示装置,该阵列基板能够解决相关技术中信号线容易发生短路的技术问题。
本发明的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本发明的实践而习得。
根据本发明的一个方面,提供一种显示面板制作方法,该方法包括:
提供一显示面板半成品,所述显示面板半成品包括基板、位于所述基板上的半导体层,位于所述半导体层背离所述基板一侧的栅极绝缘材料层,形成于所述栅极绝缘材料层背离所述基板一侧的栅极层;
在所述栅极绝缘材料层背离所述基板的一侧形成隔绝材料层,以覆盖所述栅极层,其中,所述隔绝材料层能够阻止所述栅极层的金属离子迁移;
在所述隔绝材料层上形成第一光刻胶材料层;
对所述第一光刻胶材料层进行曝光,显影以使所述第一光刻胶材料层形成第一光刻胶图案层,其中,所述第一光刻胶图案层的正投影覆盖所述栅极层;
对所述隔绝材料层进行刻蚀,以形成隔绝层,其中,所述隔绝层覆盖所述栅极层;
对所述栅极绝缘材料层进行刻蚀,以形成栅极绝缘层。
本发明的一种示例性实施例中,提供一显示面板半成品包括:
提供一所述基板;
在所述基板上形成半导体层;
在所述基板上形成栅极绝缘材料层,所述栅极绝缘材料层覆盖所述半导体层;
在所述栅极绝缘层材料层背离所述基板的一侧形成第一栅极材料层;
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