[发明专利]显示面板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201911189331.3 | 申请日： | 2019-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN110867411B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 王明;刘军;赵策 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12;H01L21/28 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板制作方法，其特征在于，包括：
提供一显示面板半成品，所述显示面板半成品包括基板、位于所述基板上的半导体层，位于所述半导体层背离所述基板一侧的栅极绝缘材料层，形成于所述栅极绝缘材料层背离所述基板一侧的栅极层；
在所述栅极绝缘材料层背离所述基板的一侧形成隔绝材料层，以覆盖所述栅极层，其中，所述隔绝材料层能够阻止所述栅极层的金属离子迁移；
在所述隔绝材料层上形成第一光刻胶材料层；
对所述第一光刻胶材料层进行曝光，显影以使所述第一光刻胶材料层形成第一光刻胶图案层，其中，所述第一光刻胶图案层的正投影覆盖所述栅极层；
对所述隔绝材料层进行刻蚀，以形成隔绝层，其中，所述隔绝层覆盖所述栅极层；
以所述隔绝层为掩膜对所述栅极绝缘材料层进行刻蚀，以形成栅极绝缘层；
所述隔绝材料层的材料包括金属铝、钕、钼中的一种或多种。
2.根据权利要求1所述的显示面板制作方法，其特征在于，提供一显示面板半成品包括：
提供一所述基板；
在所述基板上形成半导体层；
在所述基板上形成栅极绝缘材料层，所述栅极绝缘材料层覆盖所述半导体层；
在所述栅极绝缘层材料层背离所述基板的一侧形成第一栅极材料层；
在所述第一栅极材料层的背离所述基板的一侧形成第二光刻胶材料层；
对所述第二光刻胶材料层进行曝光，显影以使第二光刻胶材料层形成于所述栅极层相同图案的第二光刻胶图案层；
对所述栅极材料层进行刻蚀处理，以形成所述栅极层。
3.根据权利要求2所述的显示面板制作方法，其特征在于，在所述隔绝材料层上形成第一光刻胶材料层之前，还包括：
剥离所述第二光刻胶图案层。
4.根据权利要求1所述的显示面板制作方法，其特征在于，还包括：
对所述半导体层进行导体化处理；
在所述基板上形成介电层，所述介电层覆盖导体化后的所述半导体层、所述隔绝层；
在所述介电层背离所述基板的一侧形成源/漏层。
5.根据权利要求1所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述栅极层的材料为铜。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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