[发明专利]硅片清洗设备、限位结构

权利要求书

1.一种硅片清洗设备，其特征在于，包括：

清洗设备本体；

限位结构，设于所述清洗设备本体上，并适于在第一位置和第二位置之间切换；

其中，所述限位结构在所述第一位置时避让硅片载具，以使得所述硅片载具移入或移出所述硅片清洗设备；所述限位结构在所述第二位置时止挡所述硅片载具，以限制移入所述硅片清洗设备的所述硅片载具移动。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述清洗设备本体包括：

槽体，适于容纳所述硅片载具，并具有开口；

转轴，设于所述槽体上；

盖体，适于围绕所述转轴转动，以避让或遮挡所述开口；

其中，所述限位结构设于所述转轴上，并通过围绕所述转轴转动，在所述第一位置和所述第二位置之间切换。

3.根据权利要求2所述的硅片清洗设备，其特征在于，

所述盖体在围绕所述转轴转动时，带动所述转轴旋转，所述转轴通过所述旋转，带动所述限位结构围绕所述转轴转动。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述清洗设备本体包括：

槽体，适于容纳所述硅片载具，并具有开口；

盖体，适于避让或遮挡所述开口；

其中，所述限位结构设于所述盖体的内壁上，以使得所述盖体避让所述开口时，所述限位结构切换至所述第一位置，并使得所述盖体遮挡所述开口时，所述限位结构切换至所述第二位置。

5.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述清洗设备本体包括：

槽体，适于容纳所述硅片载具；

其中，所述限位结构设于所述槽体的内壁上，并通过围绕所述槽体的内壁转动，在所述第一位置和所述第二位置之间切换。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的硅片清洗设备，其特征在于，还包括：

压杆，设于所述限位结构远离所述清洗设备本体的一端；

分隔部，设于所述压杆上；

其中，所述硅片载具适于容纳多个顺次排列的硅片，所述压杆沿所述硅片在所述硅片载具中的排列方向设置；多个所述分隔部相互间隔地设置，以分隔所述硅片载具中的所述硅片。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的硅片清洗设备，其特征在于，

所述限位结构在所述第二位置时，所述限位结构与所述硅片载具之间具有间隙。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的硅片清洗设备，其特征在于，还包括：

固定件，设于所述清洗设备本体中；

其中，所述限位结构在所述第二位置时，所述固定件与所述限位结构相互配合，以在所述硅片载具相对的两端，分别止挡所述硅片载具。

9.根据权利要求1至5中任一项所述的硅片清洗设备，其特征在于，

所述限位结构适于通过伸展而增加长度，或通过收缩而减少长度，或通过弯折而改变相对于所述清洗设备本体的角度。

10.一种限位结构，其特征在于，

所述限位结构设于硅片清洗设备的清洗设备本体上，并适于在第一位置和第二位置之间切换；

其中，所述限位结构在所述第一位置时避让硅片载具，以使得所述硅片载具移入或移出所述硅片清洗设备；所述限位结构在所述第二位置时止挡所述硅片载具，以限制移入所述硅片清洗设备的所述硅片载具移动。