[发明专利]一种具有活动盖板的湿蚀刻设备及湿蚀刻方法有效
申请号: | 201910764932.6 | 申请日: | 2019-08-19 |
公开(公告)号: | CN110429053B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 顾玲燕;朱龙;任奕宇;李翔;承明忠 | 申请(专利权)人: | 江阴江化微电子材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 无锡坚恒专利代理事务所(普通合伙) 32348 | 代理人: | 杜兴 |
地址: | 214400 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 活动 盖板 蚀刻 设备 方法 | ||
1.一种具有活动盖板的湿蚀刻设备,包括蚀刻箱体,所述蚀刻箱体的内腔中由下至上依次设置有工件传送组件、喷淋组件,其特征在于,
喷淋组件与蚀刻箱体顶面之间设置有活动盖板组件,所述活动盖板组件包括两平行的输送辊、张紧设置在所述输送辊外的输送带、位于蚀刻箱体外且与所述输送辊连接的辊旋转驱动件、阵列分布于输送带上的若干个通孔和位于输送带下方且沿输送带带宽方向设置的扁平状吹风喷嘴,所述扁平状吹风喷嘴的出风方向与输送带的输送方向夹角为95~120°;所述输送辊的两端具有高度差,和/或位于输送辊顶端和底端的输送带层之间设置有扁平风刀,扁平风刀的出风口倾斜向下并朝向输送带。
2.根据权利要求1所述的具有活动盖板的湿蚀刻设备,其特征在于,还包括耐腐蚀风机,耐腐蚀风机的出风口与所述扁平状吹风喷嘴连通,或者耐腐蚀风机的出风口与所述扁平状吹风喷嘴以及扁平风刀连通,耐腐蚀风机的进风口与所述蚀刻箱体的内腔连通。
3.根据权利要求1所述的具有活动盖板的湿蚀刻设备,其特征在于,所述输送带为外表面经亲水改性的聚四氟乙烯片材,所述输送带的外表面设置有凹槽,所述凹槽与所述通孔的孔口相连接,所述凹槽的延伸方向与输送带的带长延伸方向一致。
4.根据权利要求1或2所述的具有活动盖板的湿蚀刻设备,其特征在于,所述通孔的中心轴与所述扁平状吹风喷嘴的出风方向一致。
5.根据权利要求4所述的具有活动盖板的湿蚀刻设备,其特征在于,所述通孔为锥台状通孔,位于所述输送带外表面的通孔孔口尺寸大于位于所述输送带内表面的通孔孔口尺寸。
6.根据权利要求5所述的具有活动盖板的湿蚀刻设备,其特征在于,所述输送带的内表面设置有导流槽,所述导流槽与位于所述输送带内表面的通孔孔口相邻设置,导流槽的延伸方向与输送带的带宽方向一致。
7.根据权利要求1所述的具有活动盖板的湿蚀刻设备,其特征在于,所述通孔在输送带上呈沿带宽方向的若干排分布,成排通孔沿所述输送带的带长延伸方向依次设置,相邻排中的通孔错位设置。
8.根据权利要求1所述的具有活动盖板的湿蚀刻设备,其特征在于,所述蚀刻箱体的侧壁上密封连接有引流条,所述引流条顶部设置有引流槽,或者引流条与所述蚀刻箱体的侧壁组合形成敞口的引流槽,所述输送带的一侧边与所述蚀刻箱体的侧壁间隙配合,所述引流槽对应设置在输送带于蚀刻箱体侧壁的间隙下方,蚀刻箱体的侧壁上还设置有出液口,所述出液口与所述蚀刻箱体外的蚀刻液储槽或者回收罐连通。
9.一种湿蚀刻方法,其特征在于,基于权利要求1至8中任意一项所述的具有活动盖板的湿蚀刻设备,包括以下步骤:喷淋组件向工件喷射蚀刻液前,启动辊旋转驱动件、扁平状吹风喷嘴,或者启动辊旋转驱动件、扁平状吹风喷嘴和扁平风刀。
10.根据权利要求9所述的湿蚀刻方法,其特征在于,还包括以下步骤:喷淋组件停止向工件喷射蚀刻液后,关闭辊旋转驱动件、扁平状吹风喷嘴,或者关闭辊旋转驱动件、扁平状吹风喷嘴和扁平风刀。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造