[发明专利]一种含硼、锆、硅单源性陶瓷前驱体及其制备方法有效
申请号: | 201910138807.4 | 申请日: | 2019-02-25 |
公开(公告)号: | CN109851798B | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 周权;宋宁;倪礼忠;杨明泽 | 申请(专利权)人: | 华东理工大学 |
主分类号: | C08G79/14 | 分类号: | C08G79/14;C04B35/48;C04B35/56;C04B35/571;C04B35/58;C04B35/622 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 高一平;徐迅 |
地址: | 200237 上海市徐汇*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅单源性 陶瓷 前驱 及其 制备 方法 | ||
1.一种耐高温材料含硼、锆、硅单源性陶瓷前驱体,其特征在于,所述耐高温材料含硼、锆、硅单源性陶瓷前驱体的结构式为
所述前驱体是如下制备的:
(1)第一步反应:在惰性气体保护下,通过乙酰丙酮与正丙醇锆配位鳌合反应生成二乙酰基二正丙醇锆;
(2)第二步反应:在惰性气体保护下,苯硼酸、乙烯基三甲氧基硅烷与第一步生成的结构单体反应,经过除溶剂后得到最终产物;
乙酰丙酮与正丙醇锆的摩尔比为2:1;苯硼酸、正丙醇锆、乙烯基三甲氧基硅烷的摩尔比为(0.8~1):1:(0.8~3),且苯硼酸与乙烯基三甲氧基硅烷的摩尔比在1~0.3之间;
第一步反应中,乙酰丙酮滴加完毕后,反应温度控制在30~50℃之间,反应时间为20~60min;
第二步反应中,加入苯硼酸与乙烯基三甲氧基硅烷后,反应温度控制在50~80℃之间,反应时间为4-10小时。
2.权利要求1所述的耐高温材料含硼、锆、硅单源性陶瓷前驱体的制备方法,其主要步骤为:
(1)第一步反应:在惰性气体保护下,通过乙酰丙酮与正丙醇锆配位鳌合反应生成二乙酰基二正丙醇锆;
(2)第二步反应:在惰性气体保护下,苯硼酸、乙烯基三甲氧基硅烷与第一步生成的结构单体反应,经过除溶剂后得到最终产物。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:乙酰丙酮与正丙醇锆的摩尔比为2:1;苯硼酸、正丙醇锆、乙烯基三甲氧基硅烷的摩尔比为(0.8~1):1:(0.8~3),且苯硼酸与乙烯基三甲氧基硅烷的摩尔比在1~0.3之间。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:第一步反应中,乙酰丙酮滴加完毕后,反应温度控制在30~50℃之间,反应时间为20~60min。
5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:第二步反应中,加入苯硼酸与乙烯基三甲氧基硅烷后,反应温度控制在50~80℃之间,反应时间为4-10小时。
6.权利要求1所述的耐高温材料含硼、锆、硅单源性陶瓷前驱体,其特征在于:高纯氩气保护下,1600℃管式炉内保温5h后得到ZrB2-ZrC-ZrO2-SiC复相陶瓷。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东理工大学,未经华东理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910138807.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。