[发明专利]静态随机存取记忆体元件在审
| 申请号: | 201910133498.1 | 申请日: | 2019-02-22 |
| 公开(公告)号: | CN110556379A | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
| 发明(设计)人: | 廖忠志 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/11 | 分类号: | H01L27/11;H01L29/10;H01L29/161 |
| 代理公司: | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;TW |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶体管形成 静态随机存取记忆体 场效晶体管 传输栅极 硅鳍片 硅锗 鳍片 晶体管 申请 | ||
1.一种静态随机存取记忆体元件,其特征在于,包含:
一P型井区域;
一第一N型井区域和一第二N型井区域,位于该P型井区域的相对两侧;
多个硅鳍片,位于该P型井区域中;
至少一硅锗鳍片,位于该第一N型井区域中;
至少一硅锗鳍片,位于该第二N型井区域中;
一第一传输栅极场效晶体管和一第一上拉场效晶体管,形成于该第一N型井区域中的该至少一硅锗鳍片之上;
一第二传输栅极场效晶体管和一第二上拉场效晶体管,形成于该第二N型井区域中的该至少一硅锗鳍片之上;
一第一下拉场效晶体管,形成于该P型井区域中的所述多个硅鳍片的其中一个之上;以及
一第二下拉场效晶体管,形成于该P型井区域中的所述多个硅鳍片中的另一个之上,
其中该第一和第二传输栅极场效晶体管以及该第一和第二上拉场效晶体管的通道区域包含第一硅锗合金,且该第一和第二传输栅极场效晶体管以及该第一和第二上拉场效晶体管的源极/漏极区域包含第二硅锗合金,其中该第一硅锗合金的组成或杂质掺杂不同于该第二硅锗合金。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





