[发明专利]阵列基板及其制备方法

说明书

本发明涉及一种阵列基板及其制备方法。所述阵列基板包括：基板，其具有用于形成像素的第一区域和位于所述第一区域之间的第二区域；位于所述基板上的所述第二区域的邻近所述第一区域的部分内的遮光部；以及位于所述第二区域内的像素限定部。至少所述遮光部的靠近所述第一区域的侧表面未被所述像素限定部覆盖。

技术领域

本发明的实施例涉及显示技术领域，特别地，涉及一种阵列基板及其制备方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示器相对于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，因此，其被认为是下一代显示技术。

制备OLED显示器的薄膜沉积方法主要包括真空蒸镀法和溶液制程。真空蒸镀适用于有机小分子。真空蒸镀法使得成膜均匀度好且技术相对成熟。然而，该真空蒸镀法具有设备投资大、材料利用率低、关于大尺寸产品的掩模对位精度低等缺点。另一方面，溶液制程可以包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等。该溶液制程适用于聚合物材料和可溶性小分子。另外，该溶液制程使得设备成本低且在大规模、大尺寸生产方面具有突出的优势。

发明内容

本发明的实施例提供了一种阵列基板及其制备方法，能够避免光学散射对用于像素的开口的尺寸的影响，从而提高器件性能。

根据本发明的一方面，提供了一种阵列基板。所述阵列基板包括：基板，其具有用于形成像素的第一区域和位于所述第一区域之间的第二区域；位于所述基板上的所述第二区域的邻近所述第一区域的部分内的遮光部；以及位于所述第二区域内的像素限定部。至少所述遮光部的靠近所述第一区域的侧表面未被所述像素限定部覆盖。

在本发明的实施例中，所述像素限定部的材料包括负性光致抗蚀剂。所述遮光部能够吸收具有所述负性光致抗蚀剂的敏感波长的光。

根据本发明的实施例，所述像素限定部覆盖所述遮光部的顶表面的至少一部分和所述遮光部的远离所述第一区域的侧表面。

根据本发明的实施例，所述像素限定部的沿垂直于所述基板的方向上的尺寸与所述遮光部的沿垂直于所述基板方向上的尺寸的比率为5:1至 15:1。

根据本发明的实施例，所述遮光部具有0.1-0.5um的沿垂直于所述基板的方向上的尺寸和2-10um的沿平行于所述基板的方向上的尺寸。

根据本发明的实施例，所述负性光致抗蚀剂为紫外光敏感的光致抗蚀剂。所述遮光部的材料包括吸收紫外光的材料。

根据本发明的实施例，所述吸收紫外光的材料包括金属氧化物和/或含碳材料。

根据本发明的实施例，所述金属氧化物包括二氧化钛或氧化铅。所述含碳材料包括碳黑或碳纳米管。

根据本发明的实施例，所述像素限定部的材料包括聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯、氟化聚酰亚胺、氟化聚甲基丙烯酸甲酯。

根据本发明的实施例，所述阵列基板还包括位于所述基板上且位于所述像素限定部之间的导电层。

根据本发明的一方面，提供了一种制备阵列基板的方法。所述方法包括：提供基板，所述基板具有用于形成像素的第一区域和位于所述第一区域之间的第二区域；在所述基板上的所述第二区域的邻近所述第一区域的部分内形成遮光部；以及在所述第二区域内形成像素限定部。至少所述遮光部的靠近所述第一区域的侧表面未被所述像素限定部覆盖。

根据本发明的实施例，形成所述遮光部包括：在所述基板上形成遮光部材料层，所述遮光部材料层的材料包括吸收紫外光的材料；以及图案化所述遮光部材料层以在所述基板上的所述第二区域的邻近所述第一区域的部分内形成遮光部。

根据本发明的实施例，所述像素限定部的材料包括光致抗蚀剂。