[发明专利]一种用于制备柔性OLED的基板及柔性OLED的制备方法

说明书

本发明提供一种柔性OLED的制备方法，采用用于制备柔性OLED的基板，所述基板包括石墨烯、金属膜和耐高温基底，所述金属膜设置于所述耐高温基底表面，所述石墨烯设置于所述金属膜表面。所述柔性OLED的制备方法包括，在所述基板的石墨烯表面上涂布基材层，然后固化，形成基材层/石墨烯/金属膜/耐高温基底；在基材层上制作OLED面板，形成OLED面板/基材层/石墨烯/金属膜/耐高温基底；和将OLED面板/基材层与石墨烯/金属膜/耐高温基底剥离，得到OLED面板/基材层。使用本发明提供的柔性OLED的制备方法，在将所述基板和所述基材层剥离的过程中，不使用激光剥离，避免了对OLED器件在拉扯中造成的损伤，提升柔性OLED器件的良率。

技术领域

本发明涉及一种用于制备柔性OLED的基板以及柔性OLED的制备方法，属于新显示技术领域。

背景技术

有机发光二极管英文名称为Organic Light-Emitting Diode，缩写是OLED，它又称为有机电激光显示、有机发光半导体。OLED显示技术具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点。

如图1所示，现有的柔性OLED的主要制备的方法为：(1)在玻璃基板11上涂布基材层6然后固化，基材层为PI膜；(2)在固化后的基材层6上进行LTPS工艺，制备TFT阵列7；(3)蒸镀有机功能层8；(4)蒸镀电极层9；(5)蒸镀覆盖层10，得到覆盖层10/电极层9/有机功能层8/TFT阵列7/基材层6/玻璃基板11；(5)使用激光剥离技术使基材层6与玻璃基板11剥离。

通过现有的柔性OLED制备方法制备的OLED的不良产生在激光剥离段，因激光照射很容易造成OLED器件的损伤，且在基板表面有颗粒物的情况下，会造成PI膜接收激光不均匀，这样在剥离过程容易对OLED器件造成拉扯损坏。

背景技术部分的内容仅仅是发明人所知晓的技术，并不当然代表本领域的现有技术。

发明内容

本发明的目的是为了解决上述现有技术中出现的在制备柔性OLED的过程中，将PI与玻璃基板剥离时对OLED器件的拉扯损坏的问题，提供了一种用于制备柔性OLED的基板，采用本发明基板能够使制备柔性OLED的过程中，PI膜与基板剥离时，OLED器件不会造成拉扯的损伤，提升OLED器件的制备良率；

本发明的另一个目的是提供一种新的柔性OLED的制备方法，该方法采用了上述基板。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案。

一种用于制备柔性OLED的基板，所述基板包括石墨烯、金属膜和耐高温基底，所述金属膜设置于所述耐高温基底表面，所述石墨烯设置于所述金属膜表面。

根据本发明的一个方面，所述耐高温基底为玻璃、陶瓷或石英。

根据本发明的一个方面，所述金属膜为铜膜、镍膜或铜镍合金膜。

优选地，所述金属膜为铜膜。

根据本发明的一个方面，所述金属膜的厚度为5-1000nm。

优选地，所述金属膜的厚度为20-100nm。

进一步优选地，所述金属膜的厚度为30nm。

金属膜和金属膜上生长的石墨烯作为用于制备柔性OLED基板的一部分，在制作完成OLED之后将金属膜和石墨烯撕除。金属膜的厚度太厚，会造成资源的浪费，制作效率也会降低，选择此厚度的金属膜能够提高效率、节约成本并能生长出良好的石墨烯。

根据本发明的一个方面，所述石墨烯为CVD法制备的石墨烯。

优选地，所述石墨烯为单层石墨烯。