[发明专利]具有经过粗化处理的铜表面的物体

权利要求书

1.一种物体，其具有被厚度为6nm以上的铜覆盖的表面，该物体的特征在于，

在至少一部分的铜表面具有凸部，

凸部的表面含有氧化铜，

凸部的内部含有铜，

在截面上，高度为50nm以上的凸部在每3.8μm中平均有5个以上，并且凸部的平均长度为500nm以下，

深度6nm(SiO₂换算)处的Cu/O的含有比为5以下。

2.如权利要求1所述的物体，其特征在于，

所述物体为铜箔、铜颗粒、铜粉或镀铜的物体。

3.如权利要求1或2所述的物体，其特征在于，

包含所述氧化铜的层的厚度为8～50nm。

4.如权利要求1～3中任一项所述的物体，其特征在于，

所述凸部的高度通过在由扫描电子显微镜得到的截面的拍摄图像中，测定将凸部两侧的凹部的极小点连结的线段的中点、与凸部的极大点的距离而得到。

5.如权利要求1～4中任一项所述的物体，其特征在于，

包含所述氧化铜的层的厚度通过连续电化学还原法(SERA)测定。

6.如权利要求1～5中任一项所述的物体，其特征在于，

所述深度通过X射线光电子能谱法(XPS)测定。

7.一种铜表面的粗化处理方法，其特征在于，包括：

将铜表面氧化的第一工序；和

将发生了氧化的所述铜表面溶解的第二工序。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，

在第一工序之前，使用碱性水溶液进行碱处理。

9.如权利要求7或8所述的方法，其特征在于，

在第一工序中，利用氧化剂将所述铜表面氧化。

10.如权利要求第7～9中任一项所述的方法，其特征在于，

在第二工序中，利用溶解剂将发生了所述氧化的所述铜表面溶解。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，

所述溶解剂的pH值为pH9.0～14.0。

12.如权利要求7～11中任一项所述的方法，其特征在于，

将发生了所述氧化的所述铜表面溶解，使得所述铜表面发生氧化而生成的氧化铜的溶解率达到35～99％、并且通过SERA测得的氧化膜厚度达到4～150nm。

13.一种物体的制造方法，其用于制造权利要求1～6中任一项所述的物体，该制造方法的特征在于，

包括利用权利要求6～11中任一项所述的方法对所述物体的表面的铜进行处理的工序。

14.一种叠层板的制造方法，所述叠层板为铜箔与树脂的叠层板，所述铜箔为权利要求1～6中任一项所述的物体，该制造方法的特征在于，

包括将所述物体与所述树脂以层状粘接的工序。

15.如权利要求14所述的叠层板的制造方法，其特征在于，

所述树脂为聚苯醚。

16.一种印刷基板的制造方法，其特征在于，

包括利用权利要求13～15中任一项所述的叠层板的制造方法制造叠层板的工序。