[发明专利]一种ELIC PCB板件内层对位加工方法在审
申请号: | 201811205246.7 | 申请日: | 2018-10-16 |
公开(公告)号: | CN109348651A | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 郑朝屹;陈洁亮;廖群良;徐国顺 | 申请(专利权)人: | 欣强电子(清远)有限公司 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K3/00 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 高志军 |
地址: | 511500 广东省清远市清远*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镭射 对位 对位孔 通孔 铜皮板 开料 内层 简化制作工艺 蚀刻 对位偏差 激光钻孔 加工效率 一致性好 工艺流程 板边 板件 干膜 开窗 视窗 铜窗 钻孔 加工 对准 保证 制作 | ||
本发明公开了一种ELIC PCB板件内层对位加工方法,包括以下步:S1:开料、视窗干膜,开料过后,取消原来的机械钻tooling孔的动作,先通过MASK在ELIC板件上开窗蚀刻铜皮板内四个3.0mm的铜窗,然后采用激光钻孔的技术在铜皮板的板边处进行钻孔,钻出的四个通孔直径为3.0mm通孔,这四个通孔是提供到外层进行对位使用的。本发明通过简化制作工艺,缩短工艺流程,提高加工效率,降低制作成本,通过mark点,供镭射对位,保证了镭射孔和MASK的对准精度,通过对位孔和镭射孔都是在镭射站同时钻出,而且同一对位体系,保证了对位孔和镭射孔的位置精度一致性,外层使用了镭射钻出四个对位孔,制作出图形,图形和板内镭射过孔一致性好,不会存在系统性对位偏差。
技术领域
本发明涉及线路板加工技术领域,具体是一种ELIC PCB板件内层对位加工方法。
背景技术
ELIC板件任意层互联PCB(Every Layer Interconnect Printed Circuit Board,印制电路板)的所有层次为高密度互联(High Density Interconnector,HDI)层,各层的导体可以通过HDI孔堆叠自由连接,为手持及移动设备上采用高度复杂的大引脚器件提供了可能;例如为CPU等提供了可靠的互联解决方案,任意层互联技术被广泛的应用在高性能智能手机领域。
但是现有的ELIC板件的价格受到主要的电子载体高密度PCB成本的制约;这类高密度PCB往往采用任意层互联技术的常规叠层法工艺加工制作,工艺流程极长,因此直接导致流程成本和报废成本的上升,进而直接影响该类线路板产品的成本。因此,本领域技术人员提供了一种ELIC PCB板件内层对位加工方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种ELIC PCB板件内层对位加工方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种ELIC PCB板件内层对位加工方法,包括以下步骤:
S1:开料、视窗干膜,开料过后,取消原来的机械钻tooling孔的动作,先通过MASK在ELIC板件上开窗蚀刻铜皮板内四个3.0mm的铜窗,然后采用激光钻孔的技术在铜皮板的板边处进行钻孔,钻出的四个通孔直径为3.0mm通孔,这四个通孔是提供到外层进行对位使用的;
S2:镭射钻孔,在MASK的板边上做出四个镭射使用的mark点,使其能够供镭射进行定位,然后将镭射钻孔机对准mark点和通孔,然后进行镭射钻孔;
S3:电镀填孔:接着采用电镀技术将孔填起来;
S4:内层干膜、酸性蚀刻:最后进行酸性蚀刻,制作出需要的图形。
作为本发明再进一步的方案:所述ELIC板件的中间基材采用圆形形状,所述圆形为真圆形,所述真圆形的基材直径为3.5mil。
作为本发明再进一步的方案:所述真圆形基材的周围的采用铜皮,所述铜皮为方形,且铜皮直径设计为10-15mil,所述铜皮最优化的设计直径为12.5mil。
作为本发明再进一步的方案:所述ELIC板件外边采用方环形基材,所述方环形基材设计的位置在铜皮的四周,所述方环形基材直径为2-3mil,所述方环形基材的最优化设计的直径为2.5mil。
作为本发明再进一步的方案:所述方环形基材的周围采用大铜皮设计。
作为本发明再进一步的方案:所述铜皮蚀刻后的形状为真圆形,位置位于ELIC板件的四个板角,所述蚀刻后的铜皮周围采用大铜皮设计。
作为本发明再进一步的方案:所述4颗的定位孔直径为16mil,所述4颗的定位孔设计为组合扩孔,形成环形孔。
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