[发明专利]一种图形密度的分析方法

权利要求书

1.一种图形密度的分析方法，用以分析版图的局部图形密度，包括：

获取位于所述版图中待分析版图区域上每一个版图图形的图形属性；

对每一个版图图形，基于对应的图形属性设定该版图图形的相关窗口；

计算每一个相关窗口的图形密度；以及

选取相关窗口的图形密度中的最大值为所述版图的最大局部图形密度，选取相关窗口的图形密度中的最小值为所述版图的最小局部图形密度；

其中，设定所述相关窗口进一步包括，对每一个版图图形，基于对应的图形属性设定该版图图形的第一相关窗口和第二相关窗口，每一个版图图形位于对应的第一相关窗口的内部，每一个版图图形与对应的第二相关窗口邻接且位于该第二相关窗口的外部；

所述获取每一个版图图形的图形属性进一步包括：获取该版图图形的最小外接矩形的顶点坐标；以及

设定相关窗口进一步包括：针对最小外接矩形的每个顶点为原点的坐标系，在该版图图形所在的象限内设定以该原点为顶点的第一相关窗口，在至少一个其余象限内设定以该原点为顶点的第二相关窗口。

2.如权利要求1所述的分析方法，其特征在于：

选取最大局部图形密度进一步包括在每一个第一相关窗口的图形密度中选取最大值为所述最大局部图形密度；以及

选取最小局部图形密度进一步包括在每一个第二相关窗口的图形密度中选取最小值为所述最小局部图形密度。

3.如权利要求2所述的分析方法，其特征在于，所述第一相关窗口和所述第二相关窗口为矩形。

4.如权利要求3所述的分析方法，其特征在于，所述最小外接矩形的顶点坐标为A(Xl，Yd)、B(Xl，Yu)、C(Xr，Yu)和D(Xr，Yd)；其中

Xl、Xr为该版图图形在所述待分析版图区域X方向上的两侧端点坐标，Yd、Yu为该版图图形在所述待分析版图区域Y方向上的两侧端点坐标。

5.如权利要求1所述的分析方法，其特征在于，所述分析方法还包括：

将每一个相关窗口的图形密度与预设最高规格作比较，以标记图形密度超出所述预设最高规格的相关窗口；和/或

将每一个相关窗口的图形密度与预设最低规格作比较，以标记图形密度低于所述预设最低规格的相关窗口。

6.如权利要求1所述的分析方法，其特征在于，所述相关窗口为W1*W1的矩形；以及

在获取所述图形属性的步骤前，所述方法还包括：

对所述版图进行初步筛选，以获取所述待分析版图区域，所述待分析版图区域为W2*W2的矩形，其中，W2大于W1。

7.如权利要求6所述的分析方法，其特征在于，所述初步筛选的步骤进一步包括：设定W2*W2的检查窗口；

以S＝1/2*W2的步长沿所述版图的X、Y方向移动所述检查窗口以遍历所述版图，并计算每一次步进的检查窗口的图形密度；

将所述每一次步进的检查窗口的图形密度与预设的筛选规格作比较，选出图形密度超出预设的筛选规格的检查窗口内的版图区域为所述待分析版图区域。

8.如权利要求1-7中任一项所述的分析方法，其特征在于，所述图形密度为相应窗口内具有版图图形的面积占相应窗口面积的比例。