[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810524721.0 申请日: 2018-05-28
公开(公告)号: CN108520884B 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 杨昆 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G06F3/041
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:

衬底基板;

多膜层结构,形成于所述衬底基板上,所述多膜层结构至少包括层间绝缘层,所述层间绝缘层上侧面设置有开孔,用以释放膜层间的应力;

触控信号线层,形成于所述多膜层结构上;

所述多膜层结构还包括依次形成于所述衬底基板上的阻挡层、缓冲层、有源层以及栅极绝缘层;

所述阵列基板还包括形成于所述层间绝缘层及所述触控信号线层之间的平坦化层;

所述阵列基板还包括形成于所述触控信号线层上的第一绝缘层及胶框。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述开孔内填充有金属材料。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述金属材料为铜、铝或者钛中的至少一种或组合。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述开孔的横截面为圆形、椭圆形以及多边形的至少一种。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述开孔不同位置处的横截面积不同。

6.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

在衬底基板上制备多膜层结构,其中,所述多膜层结构至少包括层间绝缘层,所述层间绝缘层上侧面设置有开孔,用以释放膜层间的应力;

在所述多膜层结构上形成触控信号线层;

所述多膜层结构的所述衬底基板上依次形成有的阻挡层、缓冲层、有源层以及栅极绝缘层;

所述层间绝缘层及所述触控信号线层之间形成有平坦化层;

所述触控信号线层上形成有第一绝缘层及胶框。

7.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求1-5中任一所述的阵列基板。

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