[发明专利]一种图形化方法

权利要求书

1.一种图形化方法，其特征在于，包括：

在基底上制作至少一凸起结构，所述凸起结构的位置与需要图形化的区域对应；

在所述凸起结构上形成一膜层；

采用纳米压印模板对所述膜层进行图形化；

所述采用纳米压印模板对所述膜层进行图形化包括：

在所述膜层上涂覆一层压印胶；

将纳米压印模板压在所述压印胶的表面实现图案的转移；

去除暴露出的所述膜层；

去除所述压印胶，使得剩余的所述膜层保留在所述凸起结构上。

2.根据权利要求1所述的图形化方法，其特征在于，在所述基底上制作至少两邻接的凸起结构，相邻的所述凸起结构的高度不同；

沿平行于所述基底的方向，所述凸起结构的宽度小于或等于所述纳米压印模板的宽度。

3.根据权利要求2所述的图形化方法，其特征在于，沿垂直于所述基底的方向，高度最小的所述凸起结构的高度，与所述纳米压印模板的下压高度相等。

4.根据权利要求2所述的图形化方法，其特征在于，沿垂直于所述基底的方向，相邻的所述凸起结构的高度差，不小于所述纳米压印模板的下压深度。

5.根据权利要求2所述的图形化方法，其特征在于，所述采用纳米压印模板对所述膜层进行图形化，包括：

按照所述凸起结构的高度递增的顺序，采用纳米压印模板依次对所述凸起结构上方的所述膜层进行图形化。

6.根据权利要求5所述的图形化方法，其特征在于，所述采用纳米压印模板对所述膜层进行图形化，还包括：

按照所述凸起结构的高度递增的顺序，依次对完成图形化的膜层进行遮挡。

7.根据权利要求1-6任一项所述的图形化方法，其特征在于，在基底上制作凸起结构，包括：

采用构图工艺在所述基底上制作凸起结构。

8.根据权利要求7所述的图形化方法，其特征在于，所述凸起结构的材料包括有机树脂，或无机透明材料。

9.根据权利要求8所述的图形化方法，其特征在于，所述无机透明材料包括氮化硅或氧化硅。

10.根据权利要求1所述的图形化方法，其特征在于，所述在所述凸起结构上形成一膜层，包括：

采用构图工艺在所述凸起结构上形成一金属层。