[发明专利]彩色滤光基板及其制作方法与WOLED显示器

权利要求书

1.一种彩色滤光基板，其特征在于，包括：

衬底(10)；所述衬底(10)上设有多个子像素区(11)；

设于所述衬底(10)上的像素定义层(20)；所述像素定义层(20)上对应多个子像素区(11)设有多个开口(21)；

以及于所述像素定义层(20)的多个开口(21)内设置在衬底(10)上的多个滤光图案(30)；每一滤光图案(30)均包括于衬底(10)上依次设置的量子点层(31)及滤光层(32)；所述量子点层(31)包括量子点材料；

每一滤光图案(30)还包括设于量子点层(31)与衬底(10)之间的第一锚定层(33)以及设于滤光层(32)与量子点层(31)之间的第二锚定层(34)；

所述量子点层(31)及滤光层(32)均通过溶液成膜的方式制作在像素定义层(20)的开口(21)内；

所述彩色滤光基板应用于WOLED显示器，所述彩色滤光基板具有滤光图案(30)的一侧与WOLED基板具有WOLED层的一侧相对。

2.如权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，还包括设于所述衬底(10)上且覆盖像素定义层(20)及滤光图案(30)的封装薄膜(40)。

3.如权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述第一锚定层(33)及第二锚定层(34)的材料均包括稀酸；

所述像素定义层(20)的材料为光刻胶。

4.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供衬底(10)；所述衬底(10)上设有多个子像素区(11)；

在所述衬底(10)上涂布光刻胶并进行曝光显影制程，在所述衬底(10)上形成像素定义层(20)；所述像素定义层(20)上对应多个子像素区(11)设有多个开口(21)；

采用溶液成膜的方式在所述像素定义层(20)的多个开口(21)内制作多个量子点层(31)；所述量子点层(31)包括量子点材料；

采用溶液成膜的方式在所述像素定义层(20)的多个开口(21)内于多个量子点层(31)上制作多个滤光层(32)，制得多个滤光图案(30)；

在所述像素定义层(20)的多个开口(21)内制作多个量子点层(31)之前还在所述像素定义层(20)的多个开口(21)内制作第一锚定层(33)；

在所述像素定义层(20)的多个开口(21)内于多个量子点层(31)上制作多个滤光层(32)之前还在所述像素定义层(20)的多个开口(21)内于多个量子点层(31)上制作第二锚定层(34)；

所述彩色滤光基板应用于WOLED显示器，所述彩色滤光基板具有滤光图案(30)的一侧与WOLED基板具有WOLED层的一侧相对。

5.如权利要求4所述彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，在制得多个滤光图案(30)以后还在所述衬底(10)上形成覆盖像素定义层(20)及滤光图案(30)的封装薄膜(40)；

在制得多个滤光图案(30)后还对滤光图案(30)进行干燥及烘烤。

6.如权利要求4所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述第一锚定层(33)及第二锚定层(34)的材料均包括稀酸。

7.如权利要求4所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述溶液成膜的方式为喷墨打印或涂布。

8.一种WOLED显示器，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的彩色滤光基板。