[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201810190168.1 | 申请日: | 2018-03-08 |
公开(公告)号: | CN108735721A | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 佐佐木阳光;井口知洋;木村晃也 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L25/065 | 分类号: | H01L25/065;H01L23/367 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体芯片 金属基体 接合部件 绝缘基体 半导体装置 方向交叉 | ||
1.一种半导体装置,具备:
第1半导体芯片;
第2半导体芯片;
金属基体,在与从上述第1半导体芯片向上述第2半导体芯片的方向交叉的第1方向上,与上述第1半导体芯片及上述第2半导体芯片分离;
绝缘基体,设置在上述第1半导体芯片与上述金属基体之间及上述第2半导体芯片与上述金属基体之间;
第1接合部件,设置在上述金属基体与上述绝缘基体之间,上述第1接合部件的至少一部分,在上述第1方向上处于上述第1半导体芯片与上述金属基体之间;以及
第2接合部件,设置在上述金属基体与上述绝缘基体之间,上述第2接合部件的至少一部分,在上述第1方向上处于上述第2半导体芯片与上述金属基体之间。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述第1半导体芯片的沿着与上述第1方向垂直的1个方向的第1长度,是上述第1接合部件的沿着上述1个方向的第2长度以下。
3.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述第1接合部件及上述第2接合部件是致密度为百分之60以上百分之95以下的有孔材质。
4.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述第1接合部件的沿着上述第1方向的第1厚度为50μm以上200μm以下,
上述第2接合部件的沿着上述第1方向的第2厚度为50μm以上200μm以下。
5.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述第1接合部件的第1导热率为80W/(m·K)以上350W/(m·K)以下,
上述第2接合部件的第2导热率为80W/(m·K)以上350W/(m·K)以下。
6.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述第1半导体芯片在与上述第1方向交叉的交叉平面中的第1面积S1和上述第1接合部件在上述交叉平面中的第2面积S2满足,
1.0≤S2/S1≤3.0
的关系。
7.根据权利要求6所述的半导体装置,其中,
上述第2半导体芯片在上述交叉平面中的第3面积S3和上述第2接合部件在上述交叉平面中的第4面积S4满足,
1.0≤S4/S3≤3.0
的关系。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的半导体装置,其中,还具备:
中间部件;以及
散热部件,
上述金属基体设置于上述第1接合部件与上述中间部件之间及上述第2接合部件与上述中间部件之间,
上述中间部件设置在上述金属基体与上述散热部件之间。
9.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,还具备:
树脂,在与上述第1方向交叉的方向上,设置在上述第1接合部件与上述第2接合部件之间。
10.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述第1半导体芯片包括在上述第1方向上与上述第1接合部件重叠的第1重叠区域,
上述第1重叠区域在与上述第1方向交叉的交叉平面中的面积为,上述第1半导体芯片在上述交叉平面中的第1面积的百分之90以上。
11.根据权利要求10所述的半导体装置,其中,
上述第1接合部件包括第1接合小片和第2接合小片。
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