[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201810190168.1 申请日: 2018-03-08
公开(公告)号: CN108735721A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 佐佐木阳光;井口知洋;木村晃也 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/367
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘英华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体芯片 金属基体 接合部件 绝缘基体 半导体装置 方向交叉
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,具备:

第1半导体芯片;

第2半导体芯片;

金属基体,在与从上述第1半导体芯片向上述第2半导体芯片的方向交叉的第1方向上,与上述第1半导体芯片及上述第2半导体芯片分离;

绝缘基体,设置在上述第1半导体芯片与上述金属基体之间及上述第2半导体芯片与上述金属基体之间;

第1接合部件,设置在上述金属基体与上述绝缘基体之间,上述第1接合部件的至少一部分,在上述第1方向上处于上述第1半导体芯片与上述金属基体之间;以及

第2接合部件,设置在上述金属基体与上述绝缘基体之间,上述第2接合部件的至少一部分,在上述第1方向上处于上述第2半导体芯片与上述金属基体之间。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第1半导体芯片的沿着与上述第1方向垂直的1个方向的第1长度,是上述第1接合部件的沿着上述1个方向的第2长度以下。

3.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第1接合部件及上述第2接合部件是致密度为百分之60以上百分之95以下的有孔材质。

4.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第1接合部件的沿着上述第1方向的第1厚度为50μm以上200μm以下,

上述第2接合部件的沿着上述第1方向的第2厚度为50μm以上200μm以下。

5.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第1接合部件的第1导热率为80W/(m·K)以上350W/(m·K)以下,

上述第2接合部件的第2导热率为80W/(m·K)以上350W/(m·K)以下。

6.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第1半导体芯片在与上述第1方向交叉的交叉平面中的第1面积S1和上述第1接合部件在上述交叉平面中的第2面积S2满足,

1.0≤S2/S1≤3.0

的关系。

7.根据权利要求6所述的半导体装置,其中,

上述第2半导体芯片在上述交叉平面中的第3面积S3和上述第2接合部件在上述交叉平面中的第4面积S4满足,

1.0≤S4/S3≤3.0

的关系。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的半导体装置,其中,还具备:

中间部件;以及

散热部件,

上述金属基体设置于上述第1接合部件与上述中间部件之间及上述第2接合部件与上述中间部件之间,

上述中间部件设置在上述金属基体与上述散热部件之间。

9.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,还具备:

树脂,在与上述第1方向交叉的方向上,设置在上述第1接合部件与上述第2接合部件之间。

10.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第1半导体芯片包括在上述第1方向上与上述第1接合部件重叠的第1重叠区域,

上述第1重叠区域在与上述第1方向交叉的交叉平面中的面积为,上述第1半导体芯片在上述交叉平面中的第1面积的百分之90以上。

11.根据权利要求10所述的半导体装置,其中,

上述第1接合部件包括第1接合小片和第2接合小片。

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