[发明专利]集成电感及其制造方法有效
| 申请号: | 201810149133.3 | 申请日: | 2018-02-13 |
| 公开(公告)号: | CN108538808B | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
| 发明(设计)人: | 梁宝文;林嘉亮 | 申请(专利权)人: | 瑞昱半导体股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L23/522 | 分类号: | H01L23/522;H01F17/00;H01F27/28;H01F27/40;H01F41/04 |
| 代理公司: | 72003 隆天知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄艳;李琛 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 金属走线 线段 电容性耦合 耦合电容 第二相 第二轴 第一轴 电感 方向实质 集成电感 对称 垂直 制造 | ||
本发明公开了一种电感,其一实施例包含:一第一金属走线线圈,该第一金属走线线圈相较于一第一轴方向的布局实质上是对称的;一第二金属走线线圈,该第二金属走线线圈相较于一第二轴方向的布局实质上是该第一金属走线线圈的一镜像,其中该第二轴方向实质上是垂直于该第一轴方向;一第一耦合电容,用来提供该第一金属走线线圈的一第一线段与该第二金属走线线圈的一第一相对应线段之间的一电容性耦合,其中该第一相对应线段是对应该第一线段;以及一第二耦合电容,用来提供该第一金属走线线圈的一第二线段与该第二金属走线线圈的一第二相对应线段之间的一电容性耦合,其中该第二相对应线段是对应该第二线段。
技术领域
本发明大体上涉及电感设计,尤其涉及能够改善品质因素(quality factor)的电感设计。
背景技术
电感广泛地用于多种应用中。一种近来的趋势是在一集成电路的一单晶片上包含多个电感。一集成电路的一单晶片上共存的多个电感会涉及一个严重的问题,亦即该些电感间会存在一不需要的电磁耦合(undesired magnetic coupling),其对该集成电路的功能而言是有害的,为减少该些电感之间的不需要的电磁耦合,任意两个电感之间通常需要一够大的实体距离(physical separation),此导致了扩大整体面积的需求,从而导致该集成电路的成本的增加。
鉴于上述,本领域需要的是一种建构电感的方法,所建构的电感本质上须较不受一电磁耦合的影响,该电磁耦合是指所建构的电感与制造于同一集成电路的晶片上的其它电感之间的电磁耦合。
发明内容
依据本发明的一实施例,一电感包含:一第一金属走线线圈,该第一金属走线线圈相较于一第一轴方向的布局实质上是对称的;一第二金属走线线圈,该第二金属走线线圈相较于一第二轴方向的布局实质上是该第一金属走线线圈的一镜像(mirror image),其中该第二轴方向实质上是垂直于该第一轴方向;一第一耦合电容,用来提供该第一金属走线线圈的一第一线段与该第二金属走线线圈的一第一相对应线段之间的一电容性耦合(capacitive coupling),其中该第一相对应线段是对应该第一线段(a counterpart ofthe first segment);以及一第二耦合电容,用来提供该第一金属走线线圈的一第二线段与该第二金属走线线圈的一第二相对应线段之间的一电容性耦合,其中该第二相对应线段是对应该第二线段(a counterpart of the second segment)。依据本发明的一实施例,相较于该第一轴方向,该第一耦合电容实质上是该第二耦合电容的一镜像。依据本发明的一实施例,该第一线段与该第二线段分别位于该第一金属走线线圈的一第一末端的附近与该第一金属走线线圈的一第二末端的附近。依据本发明的一实施例,一差分信号的一第一电压与该差分信号的一第二电压分别施加于该第一末端与该第二末端。依据本发明的一实施例,该第一金属走线线圈进一步包含一中央抽头(center tap),该中央抽头实质上位于该第一金属走线线圈的一中点,其中该中央抽头耦接一电压源或一电流源。依据本发明的一实施例,该第二金属走线线圈进一步包含一中央抽头,其实质上位于该第二金属走线线圈的一中点,其中该中央抽头耦接一电压源或一电流源。
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