[实用新型]一种化学槽上的盖合装置以及清洗机台有效
| 申请号： | 201720756554.3 | 申请日： | 2017-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN206931571U | 公开（公告）日： | 2018-01-26 |
| 发明（设计）人： | 吴智翔;张弢;刘鹏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 装置 以及 清洗 机台 | ||
1.一种化学槽上的盖合装置，应用于清洗晶圆的清洗机台上，包括化学槽，所述化学槽设置于所述清洗机台内，其特征在于，还包括：
与所述化学槽适配的盖板，所述盖板水平的盖合于所述化学槽的顶部；
伸缩结构，设置于所述清洗机台的内部，所述伸缩结构的一端设置于所述清洗机台的机架上，另一端与所述盖板连接，用以控制所述盖板于所述化学槽的顶部水平的伸缩移动，使所述盖板盖合或者远离所述化学槽的顶部；
液体管，所述液体管连通所述化学槽，用以将所述化学槽中的液体排除至一回收装置。
2.根据权利要求1所述的盖合装置，其特征在于，所述盖板的由PVC材质制成。
3.根据权利要求1所述的盖合装置，其特征在于，所述伸缩结构为气缸。
4.根据权利要求3所述的盖合装置，其特征在于，所述气缸设置有一对。
5.根据权利要求1所述的盖合装置，其特征在于，所述液体管由PVC材质制成。
6.根据权利要求1所述的盖合装置，其特征在于，还包括一外壳体，所述外壳体设置于所述清洗机台上；
当所述盖板盖合于所述化学槽上时，所述外壳体用以遮盖所述盖板远离所述伸缩结构的一端。
7.根据权利要求6所述的盖合装置，其特征在于，还包括多个支撑结构，所述支撑结构设置于所述清洗机台上且位于所述外壳体的下部，所述支撑结构用以承托所述外壳体。
8.一种清洗机台，其特征在于，包括权利要求1-7中任一所述的盖合装置。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
