[发明专利]金属结构及其制作方法与应用的显示面板

说明书

金属结构包括图案化钼钽氧化物层以及图案化金属层。图案化钼钽氧化物层设置于一第一基板上，其中该图案化钼钽氧化物层中钽的原子百分比含量约介于2％至12％之间，钼的原子百分比含量与氧的原子百分比含量都大于钽的原子百分比含量。图案化金属层设置于该图案化钼钽氧化物层上。

技术领域

本发明是关于一种金属结构及其制作方法与应用的显示面板。

背景技术

液晶显示面板由于具有外型轻薄、耗电量少以及应用范围广等特性，故已成为目前显示器的主流商品。一方面，为了达到更宽广的视觉效果，窄边框逐渐成为液晶显示面板的发展目标。另一方面，由于液晶显示面板内的导线会反射外界的光线而影响视觉效果，现今常在液晶显示面板内设置黑色矩阵层，在防止导线反射外界光线的同时，却也造成开口率下降、显示亮度降低的问题。

因此，如何发展出窄边框或全平面无边框、能有效降低光线反射、且不降低显示亮度的显示面板，是当前的目标。

发明内容

于本发明的多个实施方式中，借由设置图案化钼钽氧化物层以及图案化金属层，能将主动元件阵列基板邻近用户(亦即主动元件阵列基板提供显示面)。根据本发明的部分实施方式，金属结构包括图案化钼钽氧化物层以及图案化金属层。图案化钼钽氧化物层，设置于第一基板上，但本发明不以此为限。其中该图案化钼钽氧化物层中钽的原子百分比含量约介于2％至12％之间，钼的原子百分比含量与氧的原子百分比含量都大于钽的原子百分比含量。图案化金属层设置于该图案化钼钽氧化物层上。

于本发明的部分实施方式中，图案化钼钽氧化物层中氧的原子百分比含量系约介于5％至60％之间。

于本发明的部分实施方式中，图案化钼钽氧化物层的厚度系介于约50埃～约600埃之间。

于本发明的部分实施方式中，图案化金属层的厚度系介于约50埃～约10000埃之间。

于本发明的部分实施方式中，图案化钼钽氧化物层于可见光范围内的反射率介于约2％至约20％之间。

于本发明的部分实施方式中，金属结构的侧表面与底表面之间具有一夹角，且该夹角约介于10度至80度之间。

根据本发明的部分实施方式，显示面板包含第一基板、第二基板、显示介质层、图案化钼钽氧化物层以及图案化金属层。第一基板具有外表面、内表面、以及连接外表面与内表面的第一侧边，且外表面作为显示面板的显示面。第二基板具有外表面、内表面、以及连接外表面与内表面的第二侧边，且第二基板的内表面对于第一基板的内表面，其中，第一侧边与第二侧边位于显示面板的同一侧，且第一侧边实质上对齐或超出第二侧边。显示介质层设置于第一基板与第二基板之间。图案化钼钽氧化物层设置于第一基板的内表面。图案化金属层设置于图案化钼钽氧化物层与第二基板的内表面之间。

于本发明的部分实施方式中，显示面板包含背光元件，用以向第二基板提供一光线，其中第二基板位于第一基板与背光元件之间，且光线依序经过第二基板、显示介质层与第一基板。

于本发明的部分实施方式中，图案化金属层包括栅极线、栅极、共通线、数据线、源极或漏极的其中至少一者。

于本发明的部分实施方式中，图案化钼钽氧化物层中钽的原子百分比含量约介于2％至12％之间，且钼的原子百分比含量与氧的原子百分比含量都大于钽的原子百分比含量。

于本发明的部分实施方式中，图案化钼钽氧化物层中氧的原子百分比含量约介于5％至60％之间。

于本发明的部分实施方式中，图案化钼钽氧化物层的厚度介于约50埃～约600埃之间。