[发明专利]金属结构及其制作方法与应用的显示面板

权利要求书

1.一种金属结构，其特征在于，包括：

一图案化钼钽氧化物层，设置于一第一基板上，其中该图案化钼钽氧化物层中钽的原子百分比含量系介于2％至12％之间，钼的原子百分比含量与氧的原子百分比含量都大于钽的原子百分比含量；以及

一图案化金属层，设置于该图案化钼钽氧化物层上。

2.根据权利要求1所述的金属结构，其特征在于，该图案化钼钽氧化物层中氧的原子百分比含量系介于5％至60％之间。

3.根据权利要求1所述的金属结构，其特征在于，该图案化钼钽氧化物层的厚度系介于之间。

4.根据权利要求1所述的金属结构，其特征在于，该图案化金属层的厚度系介于之间。

5.根据权利要求1所述的金属结构，其特征在于，该金属结构于可见光范围内的反射率介于2％至20％之间。

6.根据权利要求1所述的金属结构，其特征在于，该金属结构的侧表面与底表面之间具有一夹角，且该夹角介于10度至80度之间。

7.一种显示面板，其特征在于，包含：

一第一基板，具有一外表面、一内表面、以及一连接该第一基板的该外表面与该内表面的第一侧边，且该外表面作为该显示面板的显示面；

一第二基板，具有一外表面、一内表面、以及一连接该第二基板的该外表面与该内表面的第二侧边，且该第二基板的该内表面对应于该第一基板的该内表面，其中，该第一侧边与该第二侧边位于该显示面板的同一侧，且该第一侧边实质上对齐或超出该第二侧边；

一显示介质层，设置于该第一基板与该第二基板之间；

一图案化钼钽氧化物层，设置于该第一基板的内表面；以及

一图案化金属层，设置于该图案化钼钽氧化物层与该第二基板的内表面之间；

其中该图案化钼钽氧化物层中钽的原子百分比含量介于2％至12％之间，且钼的原子百分比含量与氧的原子百分比含量都大于钽的原子百分比含量。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，更包含：

一背光元件，用以向该第二基板提供一光线，其中该第二基板位于该第一基板与该背光元件之间，且该光线依序经过该第二基板、该显示介质层与该第一基板。

9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，该图案化金属层包括一栅极线、一栅极、一共通线、一数据线、一源极或一漏极的其中至少一者。

10.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，该图案化钼钽氧化物层中氧的原子百分比含量介于5％至60％之间。

11.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，该图案化钼钽氧化物层的厚度介于之间。

12.一种制作金属结构的方法，其特征在于，包含：

提供一第一基板；

于该第一基板的内表面上形成一钼钽氧化物层，其中该钼钽氧化物层包括一钼钽氧化物，其中该钼钽氧化物中钽的原子百分比含量介于2％至12％之间，且钼的原子百分比含量与氧的原子百分比含量皆大于钽的原子百分比含量；

于该钼钽氧化物层上形成一金属层；以及

对该钼钽氧化物层与该金属层进行一图案化工艺，以形成一图案化钼钽氧化物层以及一图案化金属层。

13.根据权利要求12所述的制作金属结构的方法，其特征在于，对该钼钽氧化物层与该金属层进行一图案化工艺的步骤包含：

于该金属层上形成一图案化光刻胶层：以及

采用一酸性蚀刻液，以该图案化光刻胶层为屏蔽对该钼钽氧化物层与该金属层进行蚀刻。

14.根据权利要求13所述的制作金属结构的方法，其特征在于，对该钼钽氧化物层与该金属层进行一图案化工艺的步骤包含：

采用一碱性去光刻胶液，去除该图案化光刻胶层。