[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201711021454.7 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN107845662B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 宋振;王国英 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;G02F1/1335
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 彩膜基板 及其 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明提供一种彩膜基板及其制作方法和显示装置,该彩膜基板包括:衬底基板以及设置在衬底基板上的彩膜图形,平坦层和黑矩阵,其中,相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔,所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。本发明中,由于相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔,过孔内填充有黑矩阵,因而从彩膜基板对向的阵列基板发出的光的漏光的途径被填充在平坦层的过孔内的黑矩阵完全阻挡,不会进入到相邻的子像素中,能够有效避免相邻子像素间的漏光现象。另外,无需为了避免漏光现象而加大黑矩阵的宽度,从而有助于分辨率的提高。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。

背景技术

顶发射有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示技术,可以满足高品质、高分辨率OLED产品的需求,因而被广泛应用。

现有的一种顶发射OLED显示面板主要由白光OLED阵列基板以及与白光OLED阵列基板对合的彩膜(CF)基板组成,彩膜基板通常采用如图1所示的结构,其制作过程包括以下步骤:

步骤101:在衬底基板11上形成黑矩阵(BM)12;

步骤102:在黑矩阵12限定的子像素区域内形成彩膜图形13;

步骤103:在彩膜图形13上形成平坦层(OC)14。

上述彩膜基板存在以下问题:由于平坦层14较厚,因此白光OLED阵列基板的发光层(EL)发出的光进入平坦层14后,依然存在子像素间漏光的风险。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种彩膜基板及其制作方法和显示装置,能够有效避免相邻子像素间的漏光现象。

为解决上述技术问题,本发明提供一种彩膜基板,包括:衬底基板以及设置在衬底基板上的彩膜图形,平坦层和黑矩阵,其中,相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔,所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。

优选地,所述黑矩阵部分设置于所述过孔内,部分设置于所述平坦层上。

优选地,位于相邻的两彩膜图形之间的黑矩阵在所述衬底基板上的正投影与所述相邻的两彩膜图形在所述衬底基板上的正投影部分重叠。

优选地,所述彩膜基板还包括:隔垫物,所述隔垫物设置于所述黑矩阵上,所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内。

优选地,所述彩膜基板还包括:

阴极辅助电极,设置于所述黑矩阵上,所述阴极辅助电极在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内;以及

透明导电连接层,覆盖所述隔垫物、所述阴极辅助电极、所述黑矩阵和所述平坦层。

本发明还提供一种彩膜基板的制作方法,用于形成上述彩膜基板,所述制作方法包括:

提供一衬底基板;

在所述衬底基板上形成彩膜图形,平坦层和黑矩阵,其中,相邻的彩膜图形之间的平坦层上形成有过孔,所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。

优选地,所述在所述衬底基板上形成彩膜图形,平坦层和黑矩阵的步骤包括:

在所述衬底基板上形成彩膜图形;

在所述彩膜图形上形成平坦层,其中,位于相邻的彩膜图形之间的平坦层上形成有过孔;

形成黑矩阵,所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。

优选地,所述彩膜基板的制作方法还包括:

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