[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板以及设置在衬底基板上的彩膜图形，平坦层和黑矩阵，其中，相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内；

还包括：

隔垫物，所述隔垫物设置于所述黑矩阵上；

阴极辅助电极，设置于所述黑矩阵上，所述阴极辅助电极在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内；以及

透明导电连接层，覆盖所述隔垫物、所述阴极辅助电极、所述黑矩阵和所述平坦层。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵部分设置于所述过孔内，部分设置于所述平坦层上。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，位于相邻的两彩膜图形之间的黑矩阵在所述衬底基板上的正投影与所述相邻的两彩膜图形在所述衬底基板上的正投影部分重叠。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内。

5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，用于形成如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，所述制作方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成彩膜图形，平坦层和黑矩阵，其中，相邻的彩膜图形之间的平坦层上形成有过孔，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内；

在所述黑矩阵上形成阴极辅助电极，所述阴极辅助电极在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内；

在所述黑矩阵上形成隔垫物，所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内；

形成覆盖所述隔垫物、所述阴极辅助电极、所述黑矩阵和所述平坦层的透明导电连接层。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成彩膜图形，平坦层和黑矩阵的步骤包括：

在所述衬底基板上形成彩膜图形；

在所述彩膜图形上形成平坦层，其中，位于相邻的彩膜图形之间的平坦层上形成有过孔；

形成黑矩阵，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。

7.一种显示装置，其特征在于，包括阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板为如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板。

8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板为白光OLED阵列基板。