[发明专利]柔性OLED面板的制作方法

权利要求书

1.一种柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供玻璃基板(500)，在所述玻璃基板(500)上形成柔性衬底基板(110)，在所述柔性衬底基板(110)上形成TFT层(120)，在所述TFT层(120)上形成OLED层(130)；

步骤S2、采用激光对柔性衬底基板(110)进行激光剥离，使所述柔性衬底基板(110)从玻璃基板(500)上剥离下来；

所述玻璃基板(500)对所述步骤S2中所采用的激光的透过率为96％以上。

2.如权利要求1所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中所形成的柔性衬底基板(110)为聚酰亚胺基板，其具体形成过程为：在所述玻璃基板(500)上涂布一层聚酰亚胺材料，对其进行烘烤，得到聚酰亚胺材料的柔性衬底基板(110)。

3.如权利要求1所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S2中所采用的激光的波长为308nm。

4.如权利要求3所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S2中所使用的激光的能量为400-430mj。

5.如权利要求1所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中所形成的TFT层(120)用于对所述OLED层(130)进行驱动，包括多个阵列排布的TFT器件，所述TFT器件为低温多晶硅型、或者金属氧化物型。

6.如权利要求1所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中所形成的OLED层(130)包括设于所述TFT层(120)上的第一电极层(131)、设于所述TFT层(120)和第一电极层(131)上的像素定义层(135)、设于第一电极层(131)上的有机功能层(132)、以及设于像素定义层(135)和有机功能层(132)上的第二电极层(133)；

所述像素定义层(135)在第一电极层(131)上围出多个阵列排布的像素开口(138)；所述有机功能层(132)设于所述像素开口(138)内；每一像素开口(138)内的有机功能层(132)、其下方对应的第一电极层(131)、以及其上方对应的第二电极层(133)共同构成一OLED器件(D)。

7.如权利要求6所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中形成OLED层(130)的具体过程为：在所述TFT层(120)上形成第一电极层(131)，在所述TFT层(120)及第一电极层(131)上形成像素定义层(135)，在所述像素定义层(135)的多个像素开口(138)内形成有机功能层(132)，在所述像素定义层(135)及有机功能层(132)上形成第二电极层(133)。

8.如权利要求6所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中形成OLED层(130)中，所述第一电极层(131)、第二电极层(133)分别用作OLED器件(D)的阳极和阴极，所述第一电极层(131)为氧化铟锡层/银层/氧化铟锡层的叠层材料。

9.如权利要求6所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述有机功能层(132)包括依次设置的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层。

10.如权利要求6所述的柔性OLED面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S1还包括在形成所述OLED层(130)之后，在所述OLED层(130)上形成封装层，以对所述述OLED层(130)进行封装；

所述封装层为薄膜封装结构，包括层叠设置的无机阻挡层和有机缓冲层。