[发明专利]铜系金属膜用蚀刻组合物

说明书

本发明提供一种蚀刻组合物，其作为铜系金属膜用蚀刻组合物，包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂和两种以上有机酸混合物，上述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸，且柠檬酸与其他有机酸的重量比为0.9:1～1:0.9。在蚀刻本发明的液晶显示装置用阵列基板的制造中所使用的铜系金属膜时，即使铜金属的厚度增加，也能够均等地调节纵向及横向蚀刻速度而形成微细图案的铜系金属配线。

技术领域

本发明涉及一种铜系金属膜用蚀刻组合物，更详细而言，涉及一种通过对增加了厚度的铜系金属膜均等地调节纵向及横向蚀刻速度从而能够形成微细图案的铜系金属配线的蚀刻组合物。

背景技术

一般而言，显示面板作为用于驱动像素的开关元件，包括形成有薄膜晶体管的显示基板。上述显示基板包含多种金属图案，上述金属图案主要通过光刻(photolithography)方式来形成。上述光刻方式是如下工序：通过在形成于基板上的作为蚀刻对象的金属膜上形成光致抗蚀剂膜，将上述光致抗蚀剂膜曝光及显影而形成光致抗蚀剂图案后，将上述光致抗蚀剂图案用作防蚀刻膜，利用蚀刻液对上述金属膜进行蚀刻，从而将上述金属膜图案化。

近年来，作为液晶显示装置用阵列基板的栅极配线及数据配线，使用电阻低且没有环境问题的铜金属。然而，铜存在与玻璃基板及硅绝缘膜的粘接力低、会向硅绝缘膜扩散的问题，因而将钼、钛等作为下部阻挡金属而一同使用，因此开发了可同时蚀刻这些金属的组合物(韩国公开专利第10-2006-0064881号及第10-2006-0099089号)。

另一方面，为了确保液晶显示装置的高分辨率，铜金属需要具有一定范围以上、比如以上的厚度。然而，在铜金属的厚度变厚的情况下，当使用以往的蚀刻组合物时，蚀刻速度变慢而工序时间变长，且与纵向相比横向蚀刻速度更快，因此难以获得良好的蚀刻特性，无法形成微细图案的金属配线。

因此，要求开发即使铜金属的厚度增加也能够均等地调节纵向及横向蚀刻速度的蚀刻组合物。

发明内容

所要解决的课题

本发明是用于解决如上所述问题的发明，本发明的一个目的在于，提供一种即使铜金属的厚度增加也会均等地调节纵向及横向的蚀刻速度而形成微细图案的金属配线的铜系金属膜用蚀刻组合物。

本发明的另一目的在于，提供利用上述蚀刻组合物形成的微细图案的铜系金属配线。

本发明的又另一目的在于，提供一种包含上述微细图案的铜系金属配线的液晶显示装置用阵列基板。

解决课题的方法

一方面，本发明提供一种蚀刻组合物，其作为铜系金属膜用蚀刻组合物，包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂及两种以上有机酸混合物，

上述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸，且柠檬酸与其他有机酸的重量比为0.9:1～1:0.9。

本发明的一实施方式中，上述铜系金属膜可以是包含选自铜膜和铜合金膜中的一种以上膜、以及选自钼膜和钼合金膜中的一种以上膜的多层膜。

本发明的一实施方式中，上述铜膜或铜合金膜的厚度可以是以上。

本发明的一实施方式中，上述蚀刻组合物相对于组合物总重量，包含过氧化氢5～30.0重量％、含氟化合物0.01～5.0重量％、唑化合物0.1～5.0重量％、具有氮原子和羧基的水溶性化合物0.5～5.0重量％、磷酸盐化合物0.1～5.0重量％、多元醇型表面活性剂0.001～5.0重量％及两种以上有机酸混合物0.1～5.0重量％，并且包含余量的水以使组合物的总重量为100重量％。

另一方面，本发明提供利用上述蚀刻组合物形成的微细图案的铜系金属配线。