[发明专利]具有受光元件的半导体装置在审
| 申请号: | 201710119570.6 | 申请日: | 2017-03-02 |
| 公开(公告)号: | CN107154413A | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
| 发明(设计)人: | 小山威 | 申请(专利权)人: | 精工半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L27/14 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,邓毅 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 元件 半导体 装置 | ||
1.一种具有受光元件的半导体装置,其具备多个基于PN结的光电二极管,该PN结由形成于第1导电型半导体衬底的上表面的第2导电型层区域和所述第1导电型半导体衬底形成,该具有受光元件的半导体装置的特征在于,具有:
由单晶硅构成的SOI层,其在所述光电二极管与相邻的光电二极管之间隔着埋入氧化膜而设置在所述第1导电型半导体衬底上;以及
氧化膜,其设置在所述光电二极管和所述SOI层上。
2.根据权利要求1所述的具有受光元件的半导体装置,其特征在于,
所述SOI层的厚度比遮挡的光的到达深度厚。
3.根据权利要求1所述的具有受光元件的半导体装置,其特征在于,
所述SOI层在俯视时与所述光电二极管重叠。
4.根据权利要求1~3中的任意一项所述的具有受光元件的半导体装置,其特征在于,
所述氧化膜由所述埋入氧化膜和形成在所述埋入氧化膜上的绝缘氧化膜构成。
5.根据权利要求1~3中的任意一项所述的具有受光元件的半导体装置,其特征在于,
所述氧化膜由绝缘氧化膜构成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工半导体有限公司,未经精工半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710119570.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:集成电路器件
- 下一篇:一种OLED显示装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





