[发明专利]一种光刻胶组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括以下组份：

具有聚合活性和光学活性的碱溶性树脂；

至少含有两个不饱和双键且具有光学活性的低聚物或单体；

光敏剂；

非离子型或阳离子型表面活性剂；

热阻聚剂；

助剂；

溶剂。

2.根据权利要求1所述的一种光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物中各组份按质量百分比计配比如下：

3.根据权利要求1所述的一种光刻胶组合物，其特征在于，所述碱溶性树脂的分子量为1000-100000。

4.根据权利要求1所述的一种光刻胶组合物，其特征在于，所述碱溶性树脂选自丙烯酸、丙烯酸酯改性的氨基环氧树脂、聚氨酯丙烯酸酯树脂、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯改性丙烯酸酯、聚醚氨基丙烯酸酯树脂、丙烯酸酯酚醛树脂和聚酰亚胺树脂中的一种或多种组合。

5.根据权利要求1所述的一种光刻胶组合物，其特征在于，所述低聚物或单体的分子量为100-2000。

6.根据权利要求1所述的一种光刻胶组合物，其特征在于，所述低聚物或单体选自二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯、异戊四醇四丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸苄酯、环氧丙烯酸酯、脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和有机硅改性丙烯酸酯树脂中的一种或多种组合。

7.根据权利要求1所述的一种光刻胶组合物，其特征在于，所述助剂选自偶联剂、抗氧化剂、紫外吸收剂、消泡剂和增塑剂中的一种或多种组合。

8.据权利要求1所述的一种光刻胶组合物，其特征在于，所述溶剂选自丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚、乙酸乙二醇乙醚和乳酸乙酯中的一种或多种混合。

9.一种如权利要求1-8任一项所述的光刻胶组合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：将所述碱溶性树脂与所述溶剂混合，得到的一次反应体系；

S2：利用有机酸调整所述一次反应体系的pH值，得到二次反应体系；

S3：向所述二次反应体系中加入所述光敏剂、所述低聚物或单体、所述表面活性剂、所述热阻聚剂和所述助剂，得到三次反应体系；

S4：将所述三次反应体系进行过滤处理，得到光刻胶组合物。

10.一种导电基材的表面薄膜形成方法，其特征在于，包括：利用电镀沉积的方法将如权利要求1-8任一项所述的光刻胶组合物均匀沉积在所述导电基材的表面。