[实用新型]一种硅片表面氧化的装置有效
| 申请号: | 201621436574.4 | 申请日: | 2016-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN206432239U | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
| 发明(设计)人: | 陈伟;孔群;杨玉生;姜春潮 | 申请(专利权)人: | 常州好时新能源有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司: | 南京钟山专利代理有限公司32252 | 代理人: | 倪青华 |
| 地址: | 213000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 硅片 表面 氧化 装置 | ||
1.一种硅片表面氧化的装置,包括甩干机箱体(1)、密封盖(4)、臭氧发生器箱体(10)、电动机(15)和内桶(18),其特征在于:所述甩干机箱体(1)顶部安装有密封盖(4),且密封盖(4)内部设置有喷淋装置(5),所述喷淋装置(5)的左边固定有进水管(2),且进气管(6)安装在喷淋装置(5)的右边,所述进气管(6)与臭氧发生器箱体(10)连接,所述甩干机箱体(1)内部设置有内桶(18),且内桶(18)四周固定有硅片承载装置(17),所述内桶(18)底部与电动机(15)连接,且出水管(16)固定在电动机(15)右边,所述甩干机箱体(1)正表面设置有控制面板(21),且控制面板(21)上方固定有第一电源按钮(20),所述第一电源按钮(20)左边设置有指示灯(19),所述臭氧发生器箱体(10)上方,设置有第一电流表(7),且第一电流表(7)右边设置有报警器(8),所述报警器(8)右边安装有第二电流表(9),且第二电流表(9)下方设置有第二电源按钮(12),所述第二电源按钮(12)左边设置有第二工作按钮(11),所述第二工作按钮(11)左边安装有第一工作按钮(13),所述臭氧发生器箱体(10)下方安装有箱门(14)。
2.根据权利要求1所述的一种硅片表面氧化的装置,其特征在于:所述喷淋装置(5)底部设置有喷淋孔(22)。
3.根据权利要求1所述的一种硅片表面氧化的装置,其特征在于:所述进水管(2)、进气管(6)和出水管(16)上均安装有电磁阀(3)。
4.根据权利要求1所述的一种硅片表面氧化的装置,其特征在于:所述内桶(18)上设置有脱水孔。
5.根据权利要求1所述的一种硅片表面氧化的装置,其特征在于:所述甩干机箱体(1)和臭氧发生器箱体(10)底部均安装有支撑腿。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





