[实用新型]用于涂覆可移动基板的沉积源和沉积设备

权利要求书

1.一种用于涂覆可移动基板的沉积源(100)，包含：

源外壳(120)，所述源外壳以可以在沉积期间移动基板(20)经过所述源外壳的敞开的前侧(122)的方式而附接到工艺腔室；

气体入口(130)，所述气体入口用于将工艺气体引入到所述源外壳(120)的涂覆处理区域(125)中；

抽空出口(140)，所述抽空出口用于将所述工艺气体从所述源外壳(120)的泵送区域(126)去除；以及

抽空分割单元(150)，所述抽空分割单元布置在所述涂覆处理区域(125)与所述泵送区域(126)之间，所述抽空分割单元具有至少一个开口(152)，所述至少一个开口界定从所述涂覆处理区域(125)到所述泵送区域(126)中的工艺气流路径(155)。

2.根据权利要求1所述的沉积源，其特征在于，所述抽空分割单元(150)具有界定所述工艺气流路径的至少一组多个开口(152)。

3.根据权利要求2所述的沉积源，其特征在于，所述至少一组多个开口(152)以线性布置并排地布置。

4.根据权利要求3所述的沉积源，其特征在于，所述泵送区域(126)内的所述工艺气流路径的主方向(Y)垂直于所述线性布置的延伸方向。

5.根据权利要求2到4中的任一权利要求所述的沉积源，其特征在于，所述抽空分割单元(150)在所述涂覆处理区域(125)的第一横向侧上具有第一组多个开口，并且在第二横向侧上具有第二组多个开口，所述第二横向侧在基板移动方向(S)上与所述第一横向侧相反。

6.根据权利要求5所述的沉积源，其特征在于，在截面中，所述第一组多个开口与所述抽空出口之间的第一距离对应于所述第二组多个开口与所述抽空出口之间的距离。

7.根据权利要求1到4中的任一权利要求所述的沉积源，其特征在于，所述涂覆处理区域(125)内的所述工艺气流路径的第一主方向(X)是与所述泵送区域内的所述工艺气流路径的第二主方向(Y)相反的方向。

8.根据权利要求7所述的沉积源，其特征在于，所述涂覆处理区域(125)内的所述工艺气流路径的第一主方向(X)是垂直于所述开口(152)内的所述工艺气流路径的第三主方向(Z)的方向。

9.根据权利要求1到4中的任一权利要求所述的沉积源，其特征在于，所述气体入口(130)和/或所述抽空出口(140)布置在与所述敞开的前侧(122)相对的所述源外壳(120)的后侧。

10.根据权利要求1到4中的任一权利要求所述的沉积源，其特征在于，所述抽空分割单元(150)包括至少一个气体遮蔽板(158、159)。

11.根据权利要求10所述的沉积源，其特征在于，第一气体遮蔽板(158)经布置以沿所述涂覆处理区域的第一侧线性地延伸，并且第二气体遮蔽板(159)经布置以沿所述涂覆处理区域的第二侧线性地延伸。

12.根据权利要求11所述的沉积源，其特征在于，每一个气体遮蔽板在所述涂覆处理区域与所述泵送区域之间提供至少一个开口。

13.根据权利要求11所述的沉积源，其特征在于，每一个气体遮蔽板在所述涂覆处理区域与所述泵送区域之间提供多个开口(152)。

14.根据权利要求10所述的沉积源，其特征在于，所述至少一个气体遮蔽板(158、159)具有抵靠所述源外壳的接触表面(129)的凹口的前边缘(157)，其中所述工艺气流路径(155)形成在所述凹口的前边缘(157)与所述接触表面(129)之间。

15.根据权利要求1到4中的任一权利要求所述的沉积源，其特征在于，所述气体入口(130)被提供为布置在与所述敞开的前侧(122)相对的涂覆处理区域(125)中的喷淋头组合件(132)。

16.根据权利要求15所述的沉积源，其特征在于，所述喷淋头组合件的至少部分将所述涂覆处理区域与所述泵送区域分离。

17.根据权利要求15所述的沉积源，其特征在于，所述喷淋头组合件的至少部分在所述喷淋头组合件与所述源外壳的后外壁之间延伸。