[发明专利]一种制备SnSe晶体的方法在审

专利信息
申请号: 201611226276.7 申请日: 2016-12-27
公开(公告)号: CN108239787A 公开(公告)日: 2018-07-03
发明(设计)人: 金敏;蒋俊;胡皓阳;邵和助;徐静涛;江浩川 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B11/00
代理公司: 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 代理人: 张莹
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 斜体 晶体的 生长炉 制备 生长 高完整性 晶体生长 炉体轴向 温度梯度 有效减少 夹角为 多晶 申请
【说明书】:

本申请提供了一种制备SnSe晶体的方法,其特征在于,将含有SnSe多晶的原料置于斜体生长炉中的容器中生长得到;所述斜体生长炉的炉体轴向与水平方向的夹角为15~30°。该方法通过采用斜体生长有效减少了晶体与容器的接触面积,并通过较小的温度梯度、较慢的生长速度和缓慢的晶体降温速度等措施,达到了抑制或消除晶体生长不同阶段产生应力的来源,有利于获得高完整性SnSe晶体。

技术领域

本申请涉及一种制备SnSe晶体的方法,属于无机材料合成领域。

背景技术

随着工业水平的不断进步,全球对能源的需求量也日益增大,但同时这也带来了严重的环境污染问题。基于此,环境友好的可再生能源研究成为人们关注的重点。热电材料是一种能实现热能与电能相互转换的功能材料,热电器件可以利用各种热量无污染地产生电能,如太阳能、工业废热、CPU耗散及人体温差等,即只要存在温差,就可以输出能量,这对资源的有效利用会产生深远的影响。长久以来,热电材料的研究热点主要集中在合金半导体领域,如填充Skutterudites型合金、Half-Heusler金属间化合物、低热导的Clathrates型合金、硫族化合物、纳米半导体合金等。然而目前热电材料较低的能量转换效率仍然是限制其应用的瓶颈,使其只能在小功率条件下使用。近几年,一种SnSe晶体材料因具有优异的热电性能而在国际上引起轰动。SnSe晶体在923K温度下沿b轴方向的热电优值ZT高达2.6,这一数值是史无前例的,是所有热电体系中的最高值,SnSe单晶沿c轴方向的热电优值也可以达到2.3。SnSe晶体超高的热电优值主要得益于其具有超低的晶格热导率,这一发现打破了人们对热电材料的传统认识,为新型热电材料探索提供了崭新的研究思路。

然而SnSe晶体极难生长,目前国际上主要采用垂直布里奇曼法(VB)、改进型垂直布里奇曼法(MB)进行制备,但这种工艺生长的SnSe晶体非常容易开裂,成功率很低。造成这种现象的原因主要是由SnSe晶体的特殊结构引起。SnSe属于正交晶系,具有层状结构,在b-c平面内,Sn-Se之间具有较强的键合,形成SnSe双原子平面层,而沿a轴方向,Sn-Se之间则存在较弱的作用力。因此晶体在生长过程中,若材料内部应力得不到有效释放或消除,SnSe晶体则极易沿(100)面解理开裂,难以获得高质量高完整性的SnSe晶体材料。

发明内容

根据本申请的一个方面,提供一种制备SnSe晶体的方法,该方法通过采用斜体生长有效减少了晶体与容器的接触面积,并通过较小的温度梯度、较慢的生长速度和缓慢的晶体降温速度等措施,达到了抑制或消除晶体生长不同阶段产生应力的来源,有利于获得高完整性SnSe晶体。

所述制备SnSe晶体的方法,其特征在于,将含有SnSe多晶的原料置于斜体生长炉中的容器中生长得到;

所述斜体生长炉的炉体轴向与水平方向的夹角为15~30°。

优选地,所述斜体生长炉包括高温区、中温区和低温区;其中,高温区温度为900~950℃,中温区温度为860~900℃,低温区温度为800~860℃。

进一步优选地,高温区温度为910~920℃,中温区温度为890~895℃,低温区温度为860~870℃。

优选地,所述容器的放肩角度60~120°。

优选地,所述容器的直径为2~4英寸。进一步优选地,所述容器为石英坩埚。

作为本身的一种实施方式,所述容器中装有SnSe籽晶,籽晶取向为<100>、<110>、<111>。

作为本身的一种实施方式,所述制备SnSe晶体的方法,至少包括以下步骤:

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