[发明专利]晶片封装体及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201611031956.3 申请日: 2016-11-22
公开(公告)号: CN107039328A 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 何彦仕;叶晓岚;林佳升;张义民;李柏汉;吴晖贤;吴俊良 申请(专利权)人: 精材科技股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L23/00;H01L23/04;H01L21/52;G06K9/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 代理人: 刘新宇
地址: 中国台湾桃园市中*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶片 封装 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种晶片封装体,其特征在于,包含:

晶片,具有感测区、相对的第一表面与第二表面、及邻接该第一表面与该第二表面的侧面,其中该感测区位于该第一表面上;

第一粘胶层,覆盖该晶片的该第一表面;

第二粘胶层,位于该第一粘胶层上,使该第一粘胶层位于该第一表面与该第二粘胶层之间;以及

保护罩,具有底板与围绕该底板的侧壁,该底板覆盖该第二粘胶层,且该侧壁覆盖该晶片的该侧面。

2.根据权利要求1所述的晶片封装体,其特征在于,该晶片具有位在该第一表面与该第二表面间的通孔,该晶片封装体还包含:

重布线层,位于该通孔中,且延伸至该第二表面。

3.根据权利要求2所述的晶片封装体,其特征在于,还包含:

阻隔层,位于该重布线层与该第二表面上,该阻隔层具有使部分的该重布线层裸露的开口。

4.根据权利要求3所述的晶片封装体,其特征在于,还包含:

导电结构,位于该开口中的该重布线层上,且凸出该阻隔层。

5.根据权利要求4所述的晶片封装体,其特征在于,该导电结构为锡球或导电凸块。

6.根据权利要求1所述的晶片封装体,其特征在于,该保护罩的材质包含玻璃、氮化铝、胶带或蓝宝石。

7.一种晶片封装体的制造方法,其特征在于,包含:

a)使用第一粘胶层将载体贴附于晶圆的第一表面上;

b)切割该晶圆与该载体,以形成至少一晶片;

c)将该晶片与该晶片上的该载体设置于电路板上;

d)移除该晶片上的该载体;

e)提供具有底板与侧壁的保护罩,其中该侧壁围绕该底板;

f)形成第二粘胶层于该第一粘胶层上或该保护罩的该底板上;以及

g)将该保护罩的该底板与该侧壁分别覆盖该第二粘胶层与该晶片的侧面,其中该侧面邻接该第一表面及背对该第一表面的第二表面。

8.根据权利要求7所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,还包含:

研磨该晶圆的该第二表面。

9.根据权利要求7所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,还包含:

于该晶圆的该第二表面形成通孔。

10.根据权利要求9所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,还包含:

形成图案化的重布线层于该通孔中与该第二表面上。

11.根据权利要求10所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,还包含:

形成阻隔层于该重布线层与该晶圆的该第二表面上;以及

图案化该阻隔层,使该阻隔层具有使部分的该重布线层裸露的开口。

12.根据权利要求11所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,还包含:

形成导电结构于该开口中的该重布线层上。

13.根据权利要求12所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,还包含:

将该导电结构贴附于保护胶带上。

14.根据权利要求13所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,还包含:

将该载体贴附于切割胶带上;以及

移除该保护胶带。

15.根据权利要求14所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,该步骤b)包含:

在该切割胶带上切割该晶圆与该载体;以及

从该切割胶带上取下该晶圆与该载体切割后所形成的该晶片与该晶片上的该载体。

16.根据权利要求7所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,该步骤f)包含:

将该第二粘胶层点胶于该第一粘胶层上或该保护罩的该底板上。

17.根据权利要求7所述的晶片封装体的制造方法,其特征在于,该步骤f)包含:

印刷该第二粘胶层于该第一粘胶层上或该保护罩的该底板上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精材科技股份有限公司,未经精材科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611031956.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top