[发明专利]确定细节级别的图形处理设备和方法

说明书

本发明提供一种确定细节级别的图形处理设备和方法。确定用于纹理化的细节级别(LOD)的方法，包括：获取关于包括在上块中的像素的纹理坐标数据；确定包括在上块中的四边形中的参考四边形；使用被确定的参考四边形和上块的纹理坐标，确定所述被确定的参考四边形与上块之间的相似性；响应于确定相似性的步骤包括确定所述被确定的参考四边形与上块相似，将包括在上块中的四边形中的剩余四边形的LOD确定为与所述被确定的参考四边形的LOD相同。

本申请要求于2015年9月24日提交到韩国知识产权局的第10-2015-0135551号韩国专利申请的权益，针对所有目的，该韩国专利申请的全部公开通过引用合并于此。

技术领域

以下描述涉及确定用于图形管线中的纹理化的细节级别(LOD)的图形处理设备和方法。

背景技术

纹理化技术或纹理映射技术被用作在三维(3D)图形系统中获得更真实的图像的一个方法。纹理化或纹理映射表示将二维(2D)图像应用于三维(3D)对象的表面以将纹理添加到3D对象的表面的方法。这里，纹理是2D图像，纹理中的每个点被称为纹理元素并与屏幕空间上的像素相应。在处理3D图形管线时，当确定与2D屏幕空间的每个像素相应的3D空间中的对象表面时，计算具有与对象表面相应的纹理坐标的纹理元素，从而可执行像素与纹理元素之间的纹理映射。

发明内容

提供本发明内容来以简化的形式介绍在下面的具体实施方式中进一步描述的对构思的选择。本发明内容不意在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不意在用来帮助确定所要求保护的主题的范围。

根据一个总体方面，一种确定用于纹理化的细节级别(LOD)的方法，包括：获取关于包括在上块中的像素的纹理坐标数据；确定包括在上块中的四边形中的参考四边形；使用被确定的参考四边形和上块的纹理坐标，确定所述被确定的参考四边形与上块之间的相似性；响应于确定相似性的步骤包括确定所述被确定的参考四边形与上块相似，将包括在上块中的四边形中的剩余四边形的LOD确定为与所述被确定的参考四边形的LOD相同。

确定相似性的步骤可包括：使用与所述被确定的参考四边形的两个像素相应的第一纹理坐标之间的第一距离和与位于上块的两个边缘的两个像素相应的第二纹理坐标之间的第二距离来确定相似性。

第一纹理坐标可包括与所述被确定的参考四边形的四个像素相应的纹理坐标中根据最大距离而分离出的两组纹理坐标。

第二纹理坐标可包括与位于上块的四个边缘的四个像素相应的纹理坐标中根据最大距离而分离出的两组纹理坐标。

确定相似性的步骤可包括：响应于确定所述被确定的参考四边形的两个像素和位于上块的两个边缘的两个像素是对应位置的像素，使用第一距离和第二距离来确定相似性。

确定相似性的步骤可包括：确定与相应于所述被确定的参考四边形的四组纹理坐标中根据最大距离而分离出的第一纹理坐标相应的两个像素和与相应于位于上块的四个边缘的像素的四组纹理坐标中根据最大距离而分离出的第二纹理坐标相应的两个像素是否是对应位置的像素；响应于确定与第一纹理坐标相应的两个像素和与第二纹理坐标相应的两个像素是对应位置的像素，使用作为第一纹理坐标之间的最大距离的第一距离和作为第二纹理坐标之间的最大距离的第二距离来确定相似性。

确定相似性的步骤可包括：响应于第一距离乘以N与第二距离之差的绝对值小于阈值，确定所述被确定的参考四边形与上块相似，其中，N是自然数。

N可具有基于上块中与第二纹理坐标相应的两个像素之间的像素数量的值。

上块可包括8个像素的1×2四边形、8个像素的2×1四边形、16个像素的2×2四边形、32个像素的4×2四边形、32个像素的2×4四边形和64个像素的4×4四边形中的任意一个。

所述被确定的参考四边形可以是包括在上块中的四边形中位置距上块的中心最近的四边形。