[发明专利]确定细节级别的图形处理设备和方法

权利要求书

1.一种确定用于纹理化操作的细节级别LOD的方法，所述方法包括：

获取关于包括在上块中的像素的纹理坐标数据，其中，上块为包括四边形的阵列的块；

确定包括在上块中的四边形中的参考四边形；

基于被确定的参考四边形的纹理坐标和上块的纹理坐标是否按比例对应，确定所述被确定的参考四边形与上块之间的相似性；

响应于确定所述被确定的参考四边形与上块相似，将包括在上块中的四边形中的除了参考四边形之外的剩余四边形的LOD确定为与所述被确定的参考四边形的LOD相同，

其中，确定相似性的步骤包括：

确定与相应于所述被确定的参考四边形的四组纹理坐标中根据最大距离而分离出的第一纹理坐标相应的两个像素和与相应于位于上块的四个边缘的像素的四组纹理坐标中根据最大距离而分离出的第二纹理坐标相应的两个像素是否是对应位置的像素，其中，对应位置的像素位于同一延长线上；

响应于确定与第一纹理坐标相应的两个像素和与第二纹理坐标相应的两个像素是对应位置的像素，使用作为第一纹理坐标之间的最大距离的第一距离和作为第二纹理坐标之间的最大距离的第二距离来确定相似性，

其中，确定相似性的步骤包括：响应于第一距离乘以N与第二距离之差的绝对值小于阈值，确定所述被确定的参考四边形与上块相似，其中，N是具有基于上块中与第二纹理坐标相应的两个像素之间的像素数量的值的自然数。

2.如权利要求1所述的方法，其中，第一纹理坐标包括与所述被确定的参考四边形的四个像素相应的纹理坐标中根据最大距离而分离出的两组纹理坐标。

3.如权利要求1所述的方法，其中，第二纹理坐标包括与位于上块的四个边缘的四个像素相应的纹理坐标中根据最大距离而分离出的两组纹理坐标。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述被确定的参考四边形是包括在上块中的四边形中位置距上块的中心最近的四边形。

5.一种图形处理设备，包括：

处理器；

获取器，通过处理器实现，并被配置为获取关于包括在上块中的像素的纹理坐标数据，上块为包括四边形的阵列的块；

参考四边形确定器，通过处理器实现，并被配置为确定包括在上块中的四边形中的参考四边形；

相似性确定器，通过处理器实现，并被配置为基于被确定的参考四边形的纹理坐标和上块的纹理坐标是否按比例对应来确定所述被确定的参考四边形与上块之间的相似性；

细节级别LOD确定器，通过处理器实现，并被配置为当确定所述被确定的参考四边形与上块相似时，将包括在上块中的四边形中的除了参考四边形之外的剩余四边形的LOD确定为与所述被确定的参考四边形的LOD相同，

其中，相似性确定器被配置为：

确定与相应于所述被确定的参考四边形的四组纹理坐标中根据最大距离而分离出的第一纹理坐标相应的两个像素和与相应于位于上块的四个边缘的像素的四组纹理坐标中根据最大距离而分离出的第二纹理坐标相应的两个像素是否是对应位置的像素，其中，对应位置的像素位于同一延长线上；

响应于确定与第一纹理坐标相应的两个像素和与第二纹理坐标相应的两个像素是对应位置的像素，使用作为第一纹理坐标之间的最大距离的第一距离和作为第二纹理坐标之间的最大距离的第二距离来确定相似性，

其中，相似性确定器被配置为响应于第一距离乘以N与第二距离之差的绝对值小于阈值，确定所述被确定的参考四边形与上块彼此相似；

N是具有基于上块中与第二纹理坐标相应的两个像素之间的像素数量的值的自然数。

6.如权利要求5所述的图形处理设备，其中，

参考四边形包括具有多个参考像素的参考像素群，第一纹理坐标包括与所述被确定的参考四边形的四个参考像素相应的纹理坐标中根据最大距离而分离出的两组纹理坐标，其中，所述参考像素中的每个包括在不同的四边形中；

第二纹理坐标包括与位于上块的四个边缘的四个像素相应的纹理坐标中根据最大距离而分离出的两组纹理坐标。