[发明专利]一种中温烧结高频介质陶瓷电容器材料在审
申请号: | 201610098246.6 | 申请日: | 2016-02-23 |
公开(公告)号: | CN105777100A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 李玲霞;张帅;吕笑松;孙正;张宁 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C04B35/447 | 分类号: | C04B35/447;C04B35/64;H01G4/12 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 张宏祥 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 烧结 高频 介质 陶瓷 电容器 材料 | ||
技术领域
本发明属于一种以成分为特征的陶瓷组合物,特别涉及一种新型中温烧结高频介质陶 瓷材料及制备方法。
背景技术
随着电子信息技术的突飞猛进,电子产品正朝着轻量薄型化、高性能和多功能化的方 向发展。进入21世纪以来,特别是近几年,超大规模集成电路器件的集成度越来越高。当 器件的特征尺寸逐渐减小时即集成度不断提高时,会引起电阻-电容(RC)延迟上升,从而 出现信号传输延时、噪声干扰增强和功率损耗增大等一系列问题,这将极大限制器件的高 速性能。降低RC延迟和功率损耗有两个途径,一是降低导线电阻R,另外一个同时也是更 重要的是降低介质层带来的寄生电容C。由于电容C正比于介电常数εr,所以就需要开发 新型、低成本以及具有良好性能的低介电常数材料。
Mg3P2O8二元体系之前一直作为一种光电材料来展开研究,然后从而未有人报道过其在 高频乃至微波频段下的介电性能。经过实验研究发现该体系具有烧结温度低(~1050℃)、 低介电常数(~6)、损耗低(≤2x10-3),并且其固有介电常数温度系数较低。然而,该体系 的烧结温度并不能应用于低温共烧陶瓷(LTCC)的制备,为满足实际应用,进一步降低体系 的烧结温度,大大降低多层器件的成本,成为研究者努力的方向。
发明内容
本发明的目的,是制备出一种高频低介电常数陶瓷电容,满足市场需求,提供一种新 型中温烧结高频介质陶瓷电容器及其制备方法。
本发明通过如下技术方案予以实现。
.一种中温烧结高频介质陶瓷电容器材料,其化学式为Mg3P2O8。
上述中温烧结高频介质陶瓷电容器材料的制备方法,具有如下步骤:
(1)将原料MgO、(NH4)H2PO4按Mg3P2O8化学式称量配料;
(2)将步骤(1)配制的粉料放入球磨罐中,加入氧化锆球和去离子水,球磨4小时;将 球磨后的原料置于红外干燥箱中烘干,烘干后过40目筛,获得颗粒均匀的粉料;
(3)将步骤(2)处理后的粉料于850℃下煅烧4小时,合成主晶相;
(4)在步骤(3)合成主晶相后的粉料中外加质量百分比为5%的聚乙烯醇,放入球磨罐 中,加入氧化锆球和去离子水,球磨12小时,烘干后过80目筛,再用粉末压片机以4MPa 的压力成型为坯体;
(5)将步骤(4)成型后的坯体于1000~1075℃烧结,保温4小时,制成中温烧结高频介 质陶瓷材料。
所述步骤(2)和步骤(4)的烘干温度为100℃。
所述步骤(2)和步骤(4)的陶瓷粉体与氧化锆球、去离子水的质量比为1∶1∶2。
所述步骤(4)的坯体为Φ10mm×1mm的圆片。
所述步骤(4)的粉末压片机的成型压力4Mpa。
所述步骤(5)的烧结温度为1050℃,保温时间为4h。
本发明的有益效果如下:
提供了一种新型中温烧结高频介质陶瓷材料,制得的Mg3P2O8材料,具有较低的烧结 温度(1000~1075℃),较低介电常数(5.4~6.2),较低损耗值(15~20×10-4),较小的电容 量温度系数(40×10-6/℃~170×10-6/℃),进一步弥补了市场上低介电常数电容器的空缺。
具体实施方式
下面通过具体实施例对本发明作进一步说明,实例中所用原料均为市售分析纯试剂, 具体实施例如下。
实施例1
(1)将原料MgO、(NH4)H2PO4按Mg3P2O8化学式称量配料;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学,未经天津大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610098246.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:高品质因数超低介电常数微波介电陶瓷Zn3BiVO7
- 下一篇:天然能量白酒杯