[实用新型]过滤装置、过滤系统及半导体机台有效
| 申请号： | 201520463417.1 | 申请日： | 2015-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN204696089U | 公开（公告）日： | 2015-10-07 |
| 发明（设计）人： | 吴良辉 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B01D46/10;B01D5/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 过滤 装置 系统 半导体 机台 | ||
1.一种过滤装置，其特征在于，包括：
主体结构，所述主体结构的一端设置有进气口，另一端设置有出气口；
冷凝柱，所述冷凝柱位于所述主体结构内；
过滤网，所述过滤网位于所述冷凝柱和所述主体结构的内壁之间，所述过滤网的一端与所述出气口连接。
2.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述过滤装置还包括一冷凝管，所述冷凝管沿着所述冷凝柱的外壁设置。
3.如权利要求2所述的过滤装置，其特征在于，所述冷凝管设置有一进水端和一出水端，所述进水端和所述出水端均位于所述主体结构的外部。
4.如权利要求3所述的过滤装置，其特征在于，所述冷凝管呈U形状套于所述冷凝柱的外壁上。
5.如权利要求3所述的过滤装置，其特征在于，所述冷凝管呈螺旋状沿着所述冷凝柱的侧壁设置。
6.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述进气口位于所述主体结构一端的中心，所述出气口位于所述主体结构的另一端的中心。
7.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述主体结构呈柱体形。
8.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述冷凝柱的一端与所述进气口正对，另一端与所述出气口正对。
9.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述进气口的横截面呈圆形，所述出气口的横截面呈圆形。
10.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述进气口的横截面呈多边形，所述出气口的横截面呈多边形。
11.一种过滤系统，其特征在于，包括如权利要求1-10中任意一项所述的过滤装置，反应腔以及一泵，所述反应腔的出气口与所述过滤装置的进气口连接，所述过滤装置的出气口与所述泵的进气口连接。
12.一种半导体机台，其特征在于，包括如权利要求11所述的过滤系统。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
