[发明专利]研磨用组合物有效
| 申请号： | 201480054190.3 | 申请日： | 2014-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN105593331B | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 玉田修一 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B37/00;C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨用组合物，其包含磨粒和含有卤原子的氧化剂，
所述磨粒为二氧化硅，
1L研磨用组合物中的所述磨粒所具有的硅烷醇基数量的总和A除以研磨用组合物中的所述氧化剂的浓度B得到的值A/B为1.7×1017～3.0×1023，其中，A的单位：个，B的单位：质量％，
所述氧化剂的浓度为0.22质量％～2.5质量％。
2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其用于研磨具有如下的层的研磨对象物的用途，所述层为含有IV族材料的层。
3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其中，所述氧化剂的浓度为0.22质量％以上且低于0.5质量％。
4.一种研磨方法，其使用权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物来研磨具有如下的层的研磨对象物，所述层为含有IV族材料的层。
5.一种基板的制造方法，其包括用权利要求4所述的研磨方法来研磨具有如下的层的研磨对象物的工序，所述层为含有IV族材料的层。
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