[发明专利]小间距PoP封装单体

说明书

技术领域

本发明涉及一种小间距PoP封装单体，属于半导体封装技术领域。

背景技术

作为目前封装高密集成的主要方式，PoP（package on package，层叠封装）得到越来越多的重视。芯片的堆叠是提高电子封装高密化的主要途径之间，PoP设计已经在业界得到比较广泛的开发和应用。

现有技术中，一般采用锡球互连的PoP解决方案，这种结构在坍塌、位移（shift）等方面存在一定难度和不足。基板多层PoP芯片堆叠时，需将锡球与芯片一起塑封，不利于返修。传统的锡球X轴方向尺寸与Y轴尺寸相当，限制了间距时一步减小。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种小间距PoP封装单体，解决PoP封装坍塌、偏移的问题，并进一步减小间距，提高I/O数量。

按照本发明提供的技术方案，所述小间距PoP封装单体，包括芯片、塑封材料和焊球；其特征是：所述焊球包括铜核球，在铜核球表面镀覆镀层钎料。

进一步的，所述焊球为椭球形、矩形柱形或圆柱形，铜核球为椭球形、矩形柱形或圆柱形。

进一步的，所述封装单体包括塑封材料，塑封材料中塑封芯片，芯片的正面与塑封材料的正面平齐，芯片的高度小于塑封材料的高度；在所述塑封材料的正面设置RDL层，RDL层中设置再布线金属走线层，再布线金属走线层上设置UBM层，再布线金属走线层连接UBM层和芯片上的电极，在UBM层上设置焊球。

进一步的，所述封装单体包括塑封材料，塑封材料中塑封芯片和金属层，芯片的正面与塑封材料的正面平齐，芯片的高度小于塑封材料的高度；所述金属层的一表面与塑封材料的正面平齐，金属层的厚度小于塑封材料的高度；在所述塑封材料的正面设置RDL层，RDL层中设置再布线金属走线层，再布线金属走线层上设置UBM层，再布线金属走线层连接UBM层和芯片上的电极，在UBM层上设置焊球。

进一步的，所述封装单体包括塑封材料，塑封材料中塑封芯片、金属层和金属柱，芯片的正面与塑封材料的正面平齐，芯片的高度小于塑封材料的高度；所述金属层的一表面与塑封材料的正面平齐，金属层的另一表面与金属柱的一端连接，金属柱的另一端与塑封材料的背面平齐；在所述塑封材料的正面设置RDL层，RDL层中设置再布线金属走线层，再布线金属走线层上设置UBM层，再布线金属走线层连接UBM层和芯片上的电极，在UBM层上设置焊球。

进一步的，所述封装单体包括塑封材料，塑封材料中塑封芯片，芯片的背面与塑封材料的背面平齐，芯片的高度小于塑封材料的高度；在所述塑封材料的正面设置RDL层，RDL层中设置再布线金属走线层，再布线金属走线层上设置UBM层，再布线金属走线层连接UBM层和芯片上的电极，在UBM层上设置焊球。

进一步的，所述封装单体包括塑封材料，塑封材料中塑封芯片和金属层，芯片的背面与塑封材料的背面平齐，芯片的高度小于塑封材料的高度；所述金属层的一表面与塑封材料的背面平齐，金属层的厚度小于塑封材料的高度；在所述塑封材料的正面设置RDL层，RDL层中设置再布线金属走线层，再布线金属走线层上设置UBM层，再布线金属走线层连接UBM层和芯片上的电极，在UBM层上设置焊球。

进一步的，所述封装单体包括塑封材料，塑封材料中塑封芯片、金属层和金属柱，芯片的背面与塑封材料的背面平齐，芯片的高度小于塑封材料的高度；所述金属层的一表面与塑封材料的背面平齐，金属层的另一表面与金属柱的一端连接，金属柱的另一端与塑封材料的正面平齐；在所述塑封材料的正面设置RDL层，RDL层中设置再布线金属走线层，再布线金属走线层上设置UBM层，再布线金属走线层连接UBM层和芯片上的电极，在UBM层上设置焊球。

进一步的，所述封装单体为基板PoP封装结构，包括基板，在基板上采用塑封材料塑封芯片，在基板的正面设置焊盘，在焊盘上设置焊球；所述塑封材料全部覆盖基板的背面。

进一步的，所述封装单体为基板PoP封装结构，包括基板，在基板上采用塑封材料塑封芯片，在基板的正面设置焊盘，在焊盘上设置焊球；所述塑封材料部分覆盖基板的背面。

本发明所述的小间距PoP封装单体及PoP封装结构，将非中心对称型球或柱应用于扇出型晶圆级封装或PoP封装，可以解决PoP封装坍塌、偏移的问题，并进一步减小间距，提高I/O数量。

附图说明

图1为本发明所述小间距PoP封装单体第一种实施例的示意图。

图2为本发明所述小间距PoP封装单体第二种实施例的示意图。

图3为本发明所述小间距PoP封装单体第三种实施例的示意图。