[发明专利]一种MEMS器件及其制备方法、电子装置在审

专利信息
申请号: 201410554875.6 申请日: 2014-10-17
公开(公告)号: CN105565254A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 郑超;李卫刚;刘炼;王伟 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: B81B7/02 分类号: B81B7/02;B81C1/00
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 高伟;冯永贞
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 mems 器件 及其 制备 方法 电子 装置
【权利要求书】:

1.一种MEMS器件的制备方法,包括:

步骤S1:提供MEMS晶圆,在所述MEMS晶圆的正面形成有MEMS 图案;

步骤S2:在所述MEMS晶圆的正面上形成胶带,以覆盖所述MEMS图 案;

步骤S3:反转所述MEMS晶圆,在所述MEMS晶圆的背面上设置受力 保护层,并在所述受力保护层上施加压力,以将所述MEMS晶圆和所述胶带 贴合。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤S2中,所述 受力保护层包括焊盘以及焊盘底面贴合的软性材料。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在所述步骤S3中,将所 述焊盘的底面置于所述MEMS晶圆的背面上,在所述焊盘顶面上施加向下的 力,以将所述MEMS晶圆和所述胶带贴合。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤S2中,所述 受力保护层选用密封有气体的软性材料。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤S2中,所述 受力保护层选用充气隔膜袋。

6.根据权利要求4或5所述的方法,其特征在于,在所述步骤S3中选 用滚轮在所述受力保护层上施加向下的压力,以减小所述MEMS晶圆正面单 位面积的压力。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤S1中,还包 括将所述MEMS晶圆排列设置于晶圆粘片环上的步骤。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述 MEMS图案包括深孔和/或深凹槽。

9.一种基于权利要求1至8之一所述方法制备得到的MEMS器件。

10.一种电子装置,包括权利要求9所述的MEMS器件。

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