[发明专利]一种掩模板及其制作方法、掩模组件

权利要求书

1.一种掩模板，其特征在于，包括：第一子掩模板和第二子掩模板；

所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本体和设置在所述掩模板本体上的蒸镀孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸镀孔尺寸相等且完全重叠；

其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本体的材料均为具有预定刚性的塑胶材料，且厚度为5～150μm。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板本体的材料包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度相等。

4.根据权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度为5～20μm。

5.根据权利要求1-4任一项所述的掩模板，其特征在于，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板之间的间距为0～5μm。

6.一种掩模组件，其特征在于，包括权利要求1至5任一项所述的掩模板、以及用于固定拉平所述掩模板的掩模框。

7.根据权利要求6所述的掩模组件，其特征在于，所述掩模框包括位于相对两侧的夹紧部分，所述夹紧部分夹紧所述掩模板的相对两侧边缘。

8.一种掩模板的制作方法，其特征在于，包括：

将具有预定刚性的塑胶薄膜作为第一掩模板本体，拉平固定在掩模框上；

在所述第一掩模板本体的预定区域形成蒸镀孔；

将所述具有预定刚性的塑胶薄膜作为第二掩模板本体，拉平固定在所述掩模框上，并在与位于所述第一掩模板本体的蒸镀孔相对应的位置，在所述第二掩模板本体上形成所述蒸镀孔；

其中，位于所述第一掩模板本体上的所述蒸镀孔与位于所述第二掩模板本体上的所述蒸镀孔完全重叠，且所述第一掩模板本体和所述第二掩模板本体的厚度为5～150μm。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在所述第一掩模板本体的预定区域形成蒸镀孔，包括：

通过激光工艺，在所述第一掩模板本体的预定区域形成蒸镀孔；

所述在所述第二掩模板本体上形成所述蒸镀孔，包括：

通过激光工艺，在所述第二掩模板本体上形成所述蒸镀孔。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述第一掩模板本体和所述第二掩模板本体的材料包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺中的至少一种。