[发明专利]晶片粘贴装置在审
| 申请号: | 201410112854.9 | 申请日: | 2014-03-25 |
| 公开(公告)号: | CN104078347A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
| 发明(设计)人: | 小野贵司;小野寺宽;桑名一孝 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
| 主分类号: | H01L21/31 | 分类号: | H01L21/31;H01L21/67;B05C11/00 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;蔡丽娜 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶片 粘贴 装置 | ||
1.一种晶片粘贴装置,其具备:
按压构件,其具有能够吸附保持晶片的按压面;
台部,其由透光的材质形成,所述台部与该按压面对置地配设,保持透光的片材的下表面;
移动构件,其使该按压面接近和远离该台部;
树脂供给构件,其向保持于该台部的该片材的上表面供给通过照射紫外线而硬化的液态树脂;以及
紫外线照射构件,其配设在该台部的下方,朝向该台部上方照射紫外线,
所述晶片粘贴装置利用保持于该按压面的晶片来按压隔着该片材供给到该台部的上表面的该液态树脂,使该液态树脂在晶片下表面扩展,将该液态树脂粘贴于晶片,
该按压构件的该按压面具有与晶片同等的外径,
所述晶片粘贴装置具备喷射口和氮气供给源,围绕该按压面的外周呈环状地形成有多个该喷射口,该氮气供给源配设成与多个该喷射口连通,
在利用保持于该按压面的晶片来按压隔着该片材供给到该台部的上表面的该液态树脂、使该液态树脂在晶片下表面扩展之后,从多个该喷射口喷射氮气,在晶片和该液态树脂的整个外周被氮气覆盖的状态下,从该紫外线照射构件透过该台部向该液态树脂照射紫外线,使该液态树脂硬化,从而将该液态树脂粘贴于晶片。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





