[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、修复方法及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、修复方法及显示装置。

背景技术

TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管-液晶显示器）作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。TFT-LCD由阵列基板和彩膜基板构成。在阵列基板和彩膜基板中充入液晶，通过控制液晶的偏转，从而实现对光线强弱的控制，然后通过彩膜基板，实现图像显示。

现有TFT-LCD的制造工艺主要包括四个阶段，分别为彩色滤光片制备、Array（阵列基板制造）工艺、Cell（成盒）工艺以及Module（模块组装）工艺。在上述Cell工艺与Module工艺之间还设置有Cell Test（成盒检测）工艺。在Cell Test工艺过程中发现，当灰尘、有机物、金属等杂质吸附到显示面板内靠近彩膜（color filter，彩色滤光片）的区域时，对应于这些区域的亚像素常会透射出比其他正常的亚像素的亮度明亮得多的光，即发生亮点像素缺陷（Bright Pixel Defect）现象。例如，以常白画面显示模式的液晶面板为例，此类液晶面板中像素点在不通电的情况下呈现白色，正常情况下像素点在通电后呈现黑色，如果像素点在通电后还呈现白色而不能变为黑色的话，该像素点则称之为亮像素点。上述不受控制的亮点像素能够导致所述显示面板产生漏光并严重影响显示面板的品质，因此需要对具有亮点像素瑕疵的亚像素进行修复。

以一种现有技术显示面板为例，如图1所示，包括：横纵交叉的栅线11和数据线12，在栅线11和数据线12的交叉位置处设置有薄膜晶体管（TFT），该显示面板内还设置有平行于栅线11的公共电极线13，以及与TFT的漏极相连接的像素电极14。为修复该显示面板中存在的亮点缺陷，通常利用激光焊接工艺对存在亮点缺陷的像素点进行暗化处理，具体为在存在亮点缺陷的像素电极14上设置修复点（repair）点15，并对其进行激光焊接，通过激光方法熔接打孔，使得形成像素电极14的ITO融化并与形成TFT栅极的栅极金属层电连接导通。此时，存在亮点缺陷的像素点的驱动电压随信号电压的变化而改变，该像素点的液晶分子始终处于旋转状态而呈现暗像素点的效果。

在现有的修复过程中，为了降低像素电极14与栅线11之间寄生电容的耦合作用以避免出现显示效果下降（栅极电压跳变会引起像素内部电荷重新分配，从而导致像素电压变化），因此需要将修复点15设置的很小以减小上述寄生电容的耦合作用。然而这样一来会提高修复精度，加大了激光打孔对位修复的难度，从而使得由于维修时激光打偏而造成的修复失败现象的产生几率增加，进而降低了产品的良率以及生产效率。

发明内容

本发明的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、修复方法及显示装置。能够在减小寄生电容的基础上增大像素的修复区域。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面提供一种阵列基板，包括：薄膜晶体管、像素电极以及横纵交叉的栅线和数据线，还包括：

修复层，所述修复层与所述像素电极电连接，所述修复层的面积在设定的修复层面积范围内；

所述修复层的图案包括至少一个镂空部。

本发明实施例的另一方面提供一种显示装置，包括如上所述的任意一种阵列基板。

本发明实施例的又一方面提供一种如上所述的任意一种阵列基板的制作方法，包括形成薄膜晶体管、像素电极以及横纵交叉的栅线和数据线的方法，还包括：

在基板上一体形成与所述像素电极电连接的修复层。

本发明实施例的又一方面提供一种阵列基板修复方法，包括对如上所述的任意一种阵列基板进行修复的方法，包括：

在修复层的图案表面，当修复光斑与非镂空部相接触时，通过所述修复光斑熔融形成第一过孔，以使得所述非镂空部通过所述第一过孔与薄膜晶体管的栅极电连接。

本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、修复方法及显示装置。该阵列基板包括薄膜晶体管、像素电极、横纵交叉的栅线和数据线以及修复层。该修复层与像素电极电连接，其面积在设定的修复层面积范围内，并且修复层的图案包括至少一个镂空部。这样一来，可以通过上述镂空部减小该修复层与栅线或公共电极或公共电极线之间寄生电容的耦合作用，并且通过增大修复层的面积，在像素亮点修复过程中，可以降低修复激光进行对位修复时的难度，从而提高修复效率，增加产品的良率。