[发明专利]研磨用组合物以及使用其的基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及在研磨由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的用途中使用的研磨用组合物以及使用其的基板的制造方法。

背景技术

作为光学器件用基板材料和功率器件用基板材料，例如已知有：氧化铝(例如蓝宝石)、氧化硅、氧化镓和氧化锆等氧化物，氮化铝、氮化硅和氮化镓等氮化物，以及碳化硅等碳化物。由这些材料形成的基板或膜通常对氧化、络合、蚀刻之类的化学作用是稳定的，因此基于研磨的加工并不容易。因此，通常为基于使用了硬质材料的磨削、切削的加工。然而，基于磨削、切削的加工中无法得到具有高平滑性的表面。

迄今，出于得到更高平滑的表面的目的，已知使用包含较高浓度的胶态二氧化硅的研磨用组合物来研磨蓝宝石基板(例如参见专利文献1)。然而，使用高浓度的胶态二氧化硅存在会导致研磨成本上升这样的问题。另外，为了谋求成本降低而减少胶态二氧化硅的用量时，存在导致表面缺陷、例如橘皮的产生这样的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-44078号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明着眼于表面吸附剂在磨粒上的吸附量，发现了能够抑制研磨对象物的表面缺陷的研磨用组合物，从而完成了本发明。

本发明的目的在于：提供研磨用组合物以及使用其的基板的制造方法，所述研磨用组合物在研磨由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的用途中使用，能够抑制研磨对象物的表面缺陷。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本发明的一个实施方式提供含有磨粒和水的、在研磨由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的用途中使用的研磨用组合物。前述研磨用组合物还含有表面吸附剂。前述研磨用组合物与在前述研磨用组合物中不包含表面吸附剂的情况相比，研磨对象物的表面缺陷减少。

前述表面吸附剂优选为选自乙烯基系聚合物、聚环氧烷、以及聚环氧烷与烷基或亚烷基的共聚物中的至少一种。

前述磨粒和前述表面吸附剂优选以满足以下条件的方式来选择：在制备以与前述研磨用组合物中的磨粒和表面吸附剂的各含量相同的量含有前述磨粒和前述表面吸附剂的第一悬浮液时，前述悬浮液中的表面吸附剂的15质量％以上吸附于前述悬浮液中的磨粒。

前述表面吸附剂优选以满足以下条件的方式来选择：在制备以与前述研磨用组合物中的磨粒和表面吸附剂的各含量相同的量含有由与构成前述研磨对象物相同的金属化合物形成的颗粒和前述表面吸附剂的第二悬浮液时，在前述第二悬浮液中吸附于金属化合物颗粒的表面吸附剂的量比在前述第一悬浮液中吸附于磨粒的表面吸附剂的量少。

前述磨粒优选为选自氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化铈、以及氧化钛中的至少一种。

前述研磨对象物优选为由金属氧化物、金属氮化物或金属碳化物形成的单晶基板。

前述研磨对象物优选为选自氧化铝、氮化铝、氧化硅、氮化硅、碳化硅、氧化镓、氮化镓、以及氧化锆的至少一种。

本发明的另一实施方式提供一种研磨基板的制造方法，其包含使用上述实施方式的研磨用组合物来研磨由结晶性的金属化合物形成的基板的工序。

发明的效果

根据本发明，能够抑制由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的表面缺陷。

附图说明

图1示出本发明的实施例和比较例的研磨用组合物中所含的表面吸附剂在二氧化硅和氧化铝上的吸附量的图表。

图2示出利用实施例和比较例的研磨用组合物的研磨速率和产生橘皮的个数的图表。

具体实施方式

以下说明本发明的一个实施方式。